| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| ·物理气相沉积 | 第12-13页 |
| ·热喷涂 | 第13-14页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜的组织及其性能 | 第14-18页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜的组织 | 第14-16页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜的性能 | 第16-17页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜的应用 | 第17-18页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜组织的控制方法 | 第18-22页 |
| ·外加磁场溅射对薄膜的组织调控 | 第19-21页 |
| ·后续退火处理对 Al-Cu-Fe 薄膜的组织调控 | 第21-22页 |
| ·研究意义及研究内容 | 第22-24页 |
| ·研究意义 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验材料和实验方法 | 第24-30页 |
| ·实验材料 | 第24页 |
| ·基底材料和靶材 | 第24页 |
| ·材料预处理 | 第24页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜的制备及其退火处理 | 第24-27页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜的制备方法 | 第24-25页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜的制备工艺 | 第25-26页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜的真空退火处理 | 第26-27页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜表面形貌分析 | 第27-28页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第27页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第27-28页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜组织结构及成分分析 | 第28页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第28页 |
| ·X 射线能谱仪（EDAX） | 第28页 |
| ·Al-Cu-Fe 薄膜力学性能分析 | 第28-30页 |
| 第三章 磁场对 Al-Cu-Fe 薄膜的组织调控 | 第30-51页 |
| ·外加磁场对 Al-Cu-Fe 薄膜的组织结构的影响 | 第30-34页 |
| ·外加磁场强度对 Al-Cu-Fe 薄膜的组织结构的影响 | 第30-33页 |
| ·溅射功率对 Al-Cu-Fe 薄膜组织结构的影响 | 第33-34页 |
| ·外加磁场对 Al-Cu-Fe 薄膜表面形貌的影响 | 第34-43页 |
| ·外加磁场强度对 Al-Cu-Fe 薄膜的表面形貌的影响 | 第34-38页 |
| ·溅射时间对 Al-Cu-Fe 薄膜表面形貌的影响 | 第38-41页 |
| ·溅射功率对 Al-Cu-Fe 薄膜表面形貌的影响 | 第41-43页 |
| ·外加磁场对 Al-Cu-Fe 薄膜的性能的影响 | 第43-45页 |
| ·外加磁场对 Al-Cu-Fe 薄膜与基底结合性能的影响 | 第43-44页 |
| ·外加磁场对 Al-Cu-Fe 薄膜的摩擦性能的影响 | 第44-45页 |
| ·外加磁场条件下 Al-Cu-Fe 薄膜的生长机理 | 第45-50页 |
| ·外加磁场的磁场分布 | 第45-48页 |
| ·外加磁场对薄膜形核和生长的机理分析 | 第48-50页 |
| 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 退火对 Al-Cu-Fe 薄膜的组织调控 | 第51-62页 |
| ·退火对 Al-Cu-Fe 薄膜的组织结构的影响 | 第51-53页 |
| ·退火温度对 Al-Cu-Fe 薄膜组织结构的影响 | 第51页 |
| ·退火时间对 Al-Cu-Fe 薄膜的组织结构的影响 | 第51-53页 |
| ·退火对 Al-Cu-Fe 薄膜表面形貌的影响 | 第53-60页 |
| ·退火温度对 Al-Cu-Fe 薄膜表面形貌的影响 | 第53-56页 |
| ·退火时间对 Al-Cu-Fe 薄膜的表面形貌的影响 | 第56-60页 |
| ·退火对 Al-Cu-Fe 薄膜摩擦力和结合力的影响 | 第60-61页 |
| 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
| ·主要结论 | 第62-63页 |
| ·后期研究展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文及取得的相关科研成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
