反应磁控溅射金属掺杂Cu3N薄膜的制备及其特性研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 插图目录 | 第13-16页 |
| 附表目录 | 第16-17页 |
| 第—章 绪论 | 第17-24页 |
| ·Cu_3N薄膜概述 | 第17-21页 |
| ·Cu_3N薄膜的结构与相关性能 | 第17-18页 |
| ·Cu_3N薄膜的相关研究及报道 | 第18-21页 |
| ·金属掺杂Cu_3N薄膜的概述 | 第21-23页 |
| ·金属掺杂Cu_3N薄膜的结构 | 第21-22页 |
| ·金属掺杂Cu_3N薄膜的研究现状 | 第22-23页 |
| ·论文的主要内容及研究意义 | 第23-24页 |
| 第二章 Cu_3N薄膜的制备与表征方法 | 第24-28页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第24-25页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第25页 |
| ·拉曼光谱(Raman spectrum)测试 | 第25-26页 |
| ·薄膜的相关机械性能测试 | 第26页 |
| ·薄膜的相关光学特性测试 | 第26页 |
| ·薄膜的相关电学特性测试 | 第26-27页 |
| ·薄膜的相关磁学特性测试 | 第27-28页 |
| 第三章 Cu_3N薄膜的制备及其特性 | 第28-43页 |
| ·Cu_3N薄膜的制备及其结构 | 第28-36页 |
| ·氩氮比率对制备Cu_3N薄膜结构的影响 | 第29-31页 |
| ·溅射压强对制备Cu_3N薄膜结构的影响 | 第31-33页 |
| ·基底温度对制备Cu_3N薄膜结构的影响 | 第33-34页 |
| ·溅射时间对制备Cu_3N薄膜结构的影响 | 第34-36页 |
| ·Cu_3N薄膜的拉曼光谱和表面形貌 | 第36-38页 |
| ·Cu_3N薄膜的拉曼光谱分析 | 第36-37页 |
| ·Cu_3N薄膜的表面形貌分析 | 第37-38页 |
| ·Cu_3N薄膜的电学与光学性能 | 第38-43页 |
| ·Cu_3N薄膜的电学性能 | 第39-41页 |
| ·Cu_3N薄膜的光学性能 | 第41-43页 |
| 第四章 金属掺杂Cu_3N薄膜的制备及其特性 | 第43-65页 |
| ·不同基底上金属掺杂薄膜的制备 | 第43-44页 |
| ·Ti-Cu_3N薄膜的制备及特性 | 第44-54页 |
| ·Ti-Cu_3N薄膜的XRD分析 | 第45-47页 |
| ·Ti-Cu_3N薄膜的表面形貌分析 | 第47-50页 |
| ·Ti-Cu_3N薄膜的机械性能 | 第50-51页 |
| ·Ti-Cu_3N薄膜的电学性能 | 第51-52页 |
| ·Ti-Cu_3N薄膜的光学性能 | 第52-54页 |
| ·Co-Cu_3N薄膜的制备及特性 | 第54-65页 |
| ·Co-Cu_3N薄膜的XRD分析 | 第55-58页 |
| ·Co-Cu_3N薄膜的表面形貌分析 | 第58-61页 |
| ·Co-Cu_3N薄膜的电学性能 | 第61页 |
| ·Co-Cu_3N薄膜的光学特性 | 第61-63页 |
| ·Co-Cu_3N薄膜的磁学特性 | 第63-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 附录A：攻读硕士期间发表的文章 | 第73-74页 |
