真空镀膜系统中反应溅射控制的分析与研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-12页 |
·研究背景 | 第9-10页 |
·研究目的及意义 | 第10页 |
·论文主要内容 | 第10-12页 |
2 反应溅射理论 | 第12-17页 |
·概述 | 第12-13页 |
·反应溅射镀膜方法 | 第13-15页 |
·直流反应溅射 | 第13页 |
·射频反应溅射 | 第13-14页 |
·反应磁控溅射 | 第14-15页 |
·本章小结 | 第15-17页 |
3 溅射控制器的分析 | 第17-29页 |
·Speedflo 反应溅射控制器 | 第17-18页 |
·多路反馈通道 | 第18-23页 |
·光谱反馈 | 第18-21页 |
·电压反馈 | 第21-23页 |
·PDF 控制策略 | 第23-27页 |
·多通道输入输出 | 第27-28页 |
·本章小结 | 第28-29页 |
4 溅射镀膜过程的分析与建模 | 第29-42页 |
·基础模型的建立 | 第29-37页 |
·模型的改进 | 第37页 |
·滞后效应的影响因素 | 第37-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
5 控制算法仿真 | 第42-52页 |
·仿真软件的选择 | 第42页 |
·PDF 控制算法仿真 | 第42-46页 |
·PDF 控制算法参数的计算及优化 | 第42-45页 |
·PDF 控制仿真模型及仿真结果 | 第45-46页 |
·模糊 PDF 控制仿真 | 第46-51页 |
·模糊控制 | 第46-47页 |
·模糊 PDF 控制系统的设计 | 第47-48页 |
·系统的仿真模型及仿真结果 | 第48-50页 |
·仿真结果及分析 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
结论 | 第52-53页 |
致谢 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-56页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第56页 |