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真空镀膜系统中反应溅射控制的分析与研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
1 绪论第9-12页
   ·研究背景第9-10页
   ·研究目的及意义第10页
   ·论文主要内容第10-12页
2 反应溅射理论第12-17页
   ·概述第12-13页
   ·反应溅射镀膜方法第13-15页
     ·直流反应溅射第13页
     ·射频反应溅射第13-14页
     ·反应磁控溅射第14-15页
   ·本章小结第15-17页
3 溅射控制器的分析第17-29页
   ·Speedflo 反应溅射控制器第17-18页
   ·多路反馈通道第18-23页
     ·光谱反馈第18-21页
     ·电压反馈第21-23页
   ·PDF 控制策略第23-27页
   ·多通道输入输出第27-28页
   ·本章小结第28-29页
4 溅射镀膜过程的分析与建模第29-42页
   ·基础模型的建立第29-37页
   ·模型的改进第37页
   ·滞后效应的影响因素第37-41页
   ·本章小结第41-42页
5 控制算法仿真第42-52页
   ·仿真软件的选择第42页
   ·PDF 控制算法仿真第42-46页
     ·PDF 控制算法参数的计算及优化第42-45页
     ·PDF 控制仿真模型及仿真结果第45-46页
   ·模糊 PDF 控制仿真第46-51页
     ·模糊控制第46-47页
     ·模糊 PDF 控制系统的设计第47-48页
     ·系统的仿真模型及仿真结果第48-50页
     ·仿真结果及分析第50-51页
   ·本章小结第51-52页
结论第52-53页
致谢第53-54页
参考文献第54-56页
攻读学位期间的研究成果第56页

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