| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·光催化氧化概述 | 第10-14页 |
| ·光催化氧化技术发展史 | 第10-11页 |
| ·光催化氧化技术机理 | 第11页 |
| ·光催化氧化技术的应用 | 第11-13页 |
| ·光催化氧化技术研究现状 | 第13-14页 |
| ·可见光催化剂的开发 | 第14-19页 |
| ·宽禁带催化剂改性 | 第14-17页 |
| ·离子掺杂 | 第15-16页 |
| ·表面光敏化 | 第16-17页 |
| ·复合半导体 | 第17页 |
| ·新型可见光催化剂 | 第17-18页 |
| ·铋基光催化材料 | 第18-19页 |
| ·金属铋简介 | 第18页 |
| ·Bi_2WO_6简介 | 第18-19页 |
| ·Bi_2WO_6合成方法 | 第19页 |
| ·提高光催化性能的方法 | 第19-22页 |
| ·表面贵金属沉积 | 第20页 |
| ·控制晶体粒径尺寸和形貌 | 第20-21页 |
| ·异质结 | 第21-22页 |
| ·选题依据、目的和内容 | 第22-24页 |
| ·选题依据 | 第22页 |
| ·选题目的和内容 | 第22-24页 |
| 第二章 Bi_2WO_6催化剂的制备、表征及光催化性能研究 | 第24-36页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-28页 |
| ·仪器与设备 | 第25页 |
| ·试剂 | 第25-26页 |
| ·染料溶液的配置 | 第26页 |
| ·实验过程 | 第26-28页 |
| ·Bi_2WO_6合成实验 | 第26-27页 |
| ·合成样品表征 | 第27页 |
| ·染料吸光性能的测定 | 第27页 |
| ·染料线性范围的确定 | 第27页 |
| ·染料降解实验 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-35页 |
| ·样品的表征 | 第28-31页 |
| ·XRD 谱图分析 | 第28-30页 |
| ·DRS 谱图分析 | 第30-31页 |
| ·染料吸光性能的测定 | 第31-32页 |
| ·染料线性范围的确定 | 第32-33页 |
| ·染料降解实验 | 第33-35页 |
| ·染料光解 | 第33页 |
| ·合成温度对 Bi_2WO_6催化活性的影响 | 第33-34页 |
| ·前驱液 pH 值对 Bi_2WO_6催化活性的影响 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 Fe_2O_3/Bi_2WO_6的制备及其可见光催化性能的研究 | 第36-44页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验部分 | 第36-39页 |
| ·仪器与设备 | 第36-37页 |
| ·试剂 | 第37页 |
| ·实验过程 | 第37-39页 |
| ·Fe_2O_3/Bi_2WO_6的合成 | 第37-38页 |
| ·合成样品表征 | 第38页 |
| ·光催化降解实验 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-43页 |
| ·样品的表征 | 第39-41页 |
| ·XRD 谱图分析 | 第39-40页 |
| ·DRS 谱图分析 | 第40-41页 |
| ·样品的 SEM 分析 | 第41页 |
| ·光催化性能 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 NiO_X/Bi_2WO_6的制备及其可见光催化性能的研究 | 第44-52页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验部分 | 第44-47页 |
| ·仪器与设备 | 第44-45页 |
| ·试剂 | 第45-46页 |
| ·实验过程 | 第46-47页 |
| ·NiOx/Bi_2WO_6的合成 | 第46页 |
| ·合成样品表征 | 第46页 |
| ·光催化降解实验 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-51页 |
| ·样品的表征 | 第47-49页 |
| ·XRD 谱图分析 | 第47-48页 |
| ·DRS 谱图分析 | 第48-49页 |
| ·样品的 SEM 分析 | 第49页 |
| ·光催化性能 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
