摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-11页 |
第一章 文献综述 | 第11-24页 |
·引言 | 第11-12页 |
·光催化技术的研究进程 | 第12-14页 |
·半导体光催化反应的反应机理 | 第12-14页 |
·半导体光催化体系 | 第14-17页 |
·TiO_2体系 | 第14-15页 |
·Cu_2O和CuO体系 | 第15-16页 |
·其它的半导体光催化体系 | 第16-17页 |
·环己烷催化氧化的研究进展 | 第17-22页 |
·金属酞菁体系 | 第18-19页 |
·金属卟啉体系 | 第19页 |
·N-邻苯二甲酸酰氨(NHPI)体系 | 第19-20页 |
·分子筛体系 | 第20-21页 |
·Gif型氧化体系 | 第21页 |
·金属取代的杂多化合物体系 | 第21-22页 |
·纳米金属氧化物和金属氯化物体系 | 第22页 |
·总结与展望 | 第22-23页 |
·本文的研究目的及主要内容 | 第23-24页 |
第二章 半导体氧化物光催化环己烯氧化的研究 | 第24-35页 |
·前言 | 第24页 |
·实验部分 | 第24-26页 |
·仪器和试剂 | 第24-25页 |
·催化剂的制备 | 第25-26页 |
·实验结果与讨论 | 第26-34页 |
·不同半导体氧化物对环己烯氧化的影响 | 第26-28页 |
·催化剂用量对环己烯氧化的影响 | 第28-29页 |
·半导体氧化物光催化氧化环己烯机理的探究 | 第29-31页 |
·掺杂效应在光催化反应中的影响 | 第31-34页 |
·小结 | 第34-35页 |
第三章 热或光促单配型8-羟基喹啉铁(Ⅲ)类配合物对环己烷氧化的研究 | 第35-59页 |
·前言 | 第35页 |
·实验部分 | 第35-39页 |
·仪器和试剂 | 第35-36页 |
·催化剂的制备 | 第36-38页 |
·催化剂的表征方法 | 第38页 |
·催化氧化实验方法 | 第38-39页 |
·反应产物的后续处理方法 | 第39页 |
·实验结果与讨论 | 第39-57页 |
·催化剂的表征结果与讨论 | 第39-43页 |
·理论化学计算结果与讨论 | 第43-44页 |
·催化环己烷氧化反应 | 第44-52页 |
·光热条件下达到最大转化率所需时间 | 第52-54页 |
·反应过程中实验条件的优化 | 第54-57页 |
·底物扩充实验 | 第57-58页 |
·小结 | 第58-59页 |
第四章 杂配型8-羟基喹啉铁(Ⅲ)类配合物中畸变效应对环己烷氧化反应的研究 | 第59-80页 |
·前言 | 第59-60页 |
·实验部分 | 第60-62页 |
·仪器和试剂 | 第60-61页 |
·催化剂的制备 | 第61页 |
·催化剂的表征方法 | 第61-62页 |
·催化氧化实验方法 | 第62页 |
·反应产物的后续处理方法 | 第62页 |
·实验结果与讨论 | 第62-78页 |
·催化剂的表征结果与讨论 | 第62-67页 |
·实验数据结果分析与讨论 | 第67-72页 |
·其他反应条件对实验结果的影响 | 第72-73页 |
·底物扩充实验 | 第73-75页 |
·紫外监控反应 | 第75-77页 |
·反应机理的探究 | 第77-78页 |
·小结 | 第78-80页 |
第五章 论文总结及展望 | 第80-81页 |
·论文总结 | 第80页 |
·对后续研究的展望 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-92页 |
附录 | 第92-93页 |
致谢 | 第93-94页 |