摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
1 绪论 | 第10-16页 |
·铝合金及其表面工艺 | 第10-11页 |
·铝合金特点 | 第10-11页 |
·铝合金表面工艺介绍 | 第11页 |
·课题研究背景 | 第11-12页 |
·国内外研究现状 | 第12-14页 |
·阴极微弧沉积技术研究现状 | 第12-13页 |
·国内外涂层/基体系统有限元方法综述 | 第13-14页 |
·课题研究内容 | 第14-15页 |
·课题研究目的和意义 | 第15-16页 |
·阴极微弧沉积技术制备复合热障涂层 | 第15页 |
·铝合金表面涂层瞬态热力耦合数值模拟 | 第15-16页 |
2 实验方法 | 第16-23页 |
·实验材料 | 第16-17页 |
·材料成分 | 第16页 |
·试样制备 | 第16-17页 |
·实验药品及仪器 | 第17-18页 |
·实验药品 | 第17页 |
·实验仪器与设备 | 第17-18页 |
·阴极沉积涂层生长过程研究 | 第18-19页 |
·试样的预处理 | 第18页 |
·正交试验 | 第18-19页 |
·生长过程的研究 | 第19页 |
·涂层性能测试 | 第19-21页 |
·涂层显微组织分析 | 第21-22页 |
·物相分析 | 第21页 |
·形貌分析 | 第21页 |
·透射电镜实验 | 第21-22页 |
·阴极沉积机理研究 | 第22-23页 |
·粉体烧结实验 | 第22页 |
·掺杂氧化物稳定机制研究 | 第22页 |
·阴极微弧放电模型 | 第22-23页 |
3 阴极微弧沉积涂层制备工艺研究及性能测试 | 第23-35页 |
·涂层制备工艺方案的研究 | 第23-28页 |
·工艺方案的确定 | 第23页 |
·工艺方案的研究 | 第23-28页 |
·最优工艺方案的验证 | 第28页 |
·涂层性能分析 | 第28-34页 |
·涂层隔热性能研究分析 | 第28-29页 |
·阴极微弧涂层高温稳定性能分析 | 第29-31页 |
·阴极微弧涂层抗热冲击性能分析 | 第31-32页 |
·阴极微弧涂层硬度、粗糙度以及附着力强度性能分析 | 第32-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
4 阴极微弧沉积涂层生长过程及机理研究 | 第35-59页 |
·不同溶液体系阴极沉积涂层生长过程研究 | 第35-38页 |
·Zr(NO_3)_4溶液体系涂层生长过程研究 | 第35页 |
·Y(NO_3)_3-Zr(NO_3)_4溶液体系体系涂层生长过程研究 | 第35-36页 |
·两种溶液体系体系涂层生长过程对比研究 | 第36-37页 |
·溶液中Y~(3+)浓度对涂层生长过程的影响 | 第37-38页 |
·涂层微观组织形貌与相组成分析 | 第38-47页 |
·Zr~(4+)盐溶液体系涂层扫描电镜形貌分析 | 第38-40页 |
·Zr~(4+)盐溶液体系涂层EDS元素分析 | 第40-42页 |
·复合溶液体系涂层扫描电镜形貌分析 | 第42-43页 |
·复合溶液体系涂层EDS分析 | 第43页 |
·涂层相组分XRD分析 | 第43-45页 |
·涂层透射电镜分析 | 第45-47页 |
·阴极微弧沉积涂层生长机理研究 | 第47-53页 |
·气体放电理论 | 第47-49页 |
·涂层生长过程分析 | 第49-52页 |
·阴极微弧沉积放电模型 | 第52-53页 |
·掺杂氧化物稳定机制研究 | 第53-58页 |
·低价阳离子掺杂稳定机理 | 第53-55页 |
·氧化钇掺杂氧化锆部分稳定机理 | 第55-58页 |
·掺杂氧化物部分稳定的晶体学特征 | 第58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
5 陶瓷涂层的数值模拟计算 | 第59-66页 |
·问题描述与求解过程 | 第59-60页 |
·问题描述 | 第59页 |
·求解步骤 | 第59-60页 |
·结果分析与讨论 | 第60-64页 |
·厚度与温度场关系分析与讨论 | 第60-61页 |
·厚度与应力场关系分析与讨论 | 第61-63页 |
·不同换热系数对涂层隔热效果的影响 | 第63-64页 |
·不同换热系数对涂层应力场的影响 | 第64页 |
·本章小结 | 第64-66页 |
6 结论 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第71-72页 |
致谢 | 第72-74页 |