| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·硅微通道阵列的简介与应用 | 第7-9页 |
| ·电化学加工工艺 | 第9-11页 |
| ·多孔硅的研究现状 | 第11-13页 |
| ·本论文的主要研究内容及意义 | 第13-14页 |
| 第二章 硅微通道结构制备 | 第14-22页 |
| ·多孔硅形成的基本原理 | 第14-15页 |
| ·硅微通道结构的制造工艺流程 | 第15-22页 |
| 第三章 光照对通道生长速率的影响 | 第22-30页 |
| ·硅的基本性质 | 第22-23页 |
| ·光激发空穴对光电流的影响分析 | 第23-27页 |
| ·光照强度对光电化学反应速率的影响 | 第27页 |
| ·光照强度对通道生长速率的影响 | 第27-30页 |
| 第四章 温度和HF浓度对通道生长速率的影响 | 第30-37页 |
| ·温度对通道生长速率的影响 | 第30-32页 |
| ·HF浓度对通道生长速率的影响 | 第32-34页 |
| ·通道生长速率与其深度之间的关系 | 第34-37页 |
| 结论 | 第37-38页 |
| 致谢 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |