强磁场下Fe-Ni薄膜的制备及其结构和性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-30页 |
| ·磁记录存储简介 | 第12页 |
| ·硬盘存储介质 | 第12-19页 |
| ·硬盘存储介质简介 | 第12-14页 |
| ·硬盘物理结构及记录原理简介 | 第14-15页 |
| ·硬盘记录介质与硬盘写磁头 | 第15-19页 |
| ·硬盘面密度的发展历程及目前所遇到的瓶颈 | 第19-25页 |
| ·硬盘面密度的发展历程 | 第19-20页 |
| ·硬盘面密度发展瓶颈及解决思路 | 第20-22页 |
| ·高密度写磁头材料 | 第22-25页 |
| ·利用强磁场控制薄膜制备 | 第25-28页 |
| ·超导强磁场简介 | 第25-26页 |
| ·强磁场在材料制备过程中的应用 | 第26-28页 |
| ·强磁场对薄膜制备的影响 | 第28页 |
| ·本文研究的目的、内容以及创新性 | 第28-30页 |
| ·本文研究的目的、研究内容和研究意义 | 第28-29页 |
| ·本文研究的创新性 | 第29-30页 |
| 第2章 薄膜的制备及其性能的表征 | 第30-40页 |
| ·实验设计方案与实验流程 | 第30页 |
| ·实验设计方案 | 第30页 |
| ·实验流程 | 第30页 |
| ·薄膜的制备 | 第30-35页 |
| ·薄膜的制备方法简介 | 第30-33页 |
| ·超导强磁体装置和分子束气相沉积装置 | 第33-34页 |
| ·基片选择与清洗 | 第34页 |
| ·源材料的选择与清洗 | 第34-35页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第35-40页 |
| ·薄膜表面形貌的观察 | 第35-36页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第36页 |
| ·薄膜成分的分析 | 第36-37页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第37-38页 |
| ·薄膜磁性能的测量 | 第38-40页 |
| 第3章 Fe-Ni合金薄膜的组织控制和性能分析 | 第40-50页 |
| ·薄膜制备参数确定 | 第40-43页 |
| ·薄膜生长速率的确定 | 第40-41页 |
| ·薄膜成分的确定 | 第41-42页 |
| ·基片的确定 | 第42-43页 |
| ·基片温度对薄膜的影响 | 第43-50页 |
| ·基片温度对薄膜成分和沉积速率的影响 | 第44-45页 |
| ·基片温度对薄膜表面形貌的影响 | 第45-47页 |
| ·基片温度对薄膜结构的影响 | 第47-48页 |
| ·基片温度对薄膜磁性能的影响 | 第48-50页 |
| 第4章 强磁场对Fe-Ni薄膜结构和性能的影响 | 第50-68页 |
| ·不同基片温度下强磁场对薄膜的影响 | 第50-58页 |
| ·不同基片温度下强磁场对薄膜成分的影响 | 第50-52页 |
| ·不同基片温度下强磁场对薄膜表面形貌的影响 | 第52-54页 |
| ·不同基片温度下强磁场对薄膜结构的影响 | 第54-56页 |
| ·不同基片温度下强磁场对薄膜磁性能的影响 | 第56-58页 |
| ·不同磁场作用时间对薄膜的影响 | 第58-61页 |
| ·不同磁场作用时间对薄膜结构的影响 | 第58-59页 |
| ·不同磁场作用时间对薄膜磁性能的影响 | 第59-61页 |
| ·不同磁场强度对薄膜磁性能的影响 | 第61-63页 |
| ·强磁场对纯Fe薄膜的影响 | 第63-68页 |
| ·强磁场对纯Fe薄膜表面平整度的影响 | 第63-64页 |
| ·强磁场对纯Fe薄膜结构的影响 | 第64-65页 |
| ·强磁场对纯Fe薄膜磁性能的影响 | 第65-68页 |
| 第5章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 致谢 | 第74-76页 |
| 个人简历 | 第76页 |
