| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-12页 |
| 第二章 ZnO阵列的合成 | 第12-15页 |
| ·湿化学法反应原理 | 第12-13页 |
| ·Si衬底的清洗 | 第13页 |
| ·Si衬底的ODS化学处理 | 第13-14页 |
| ·ZnO阵列的合成 | 第14页 |
| ·过渡层的制备 | 第14-15页 |
| 第三章 ZnO阵列的合成和性质 | 第15-21页 |
| ·硅衬底上合成ZnO阵列的性质 | 第15-17页 |
| ·ODS处理硅衬底上合成ZnO阵列的结构 | 第17-18页 |
| ·金过渡层上合成ZnO阵列的形貌 | 第18-19页 |
| ·AlN过渡层上合成ZnO阵列的形貌 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第四章 ZnO薄膜的合成与特性 | 第21-26页 |
| ·ZnO薄膜的合成 | 第21-22页 |
| ·ZnO薄膜的结构 | 第22-23页 |
| ·ZnO薄膜的发光性质 | 第23-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第五章 结论 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-29页 |
| 索引 | 第29-30页 |
| 作者简历 | 第30-32页 |
| 学位论文数据集 | 第32页 |