| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-25页 |
| ·相关磁学参量与磁谱分析 | 第7-13页 |
| ·饱和磁化强度M_s和饱和磁感应强度B_s | 第8页 |
| ·剩磁M_r或B_r和矫顽力_iH_c或_bH_c | 第8页 |
| ·磁各向异性常数 | 第8-9页 |
| ·磁致伸缩系数 | 第9页 |
| ·磁导率 | 第9-10页 |
| ·磁损耗 | 第10-12页 |
| ·磁谱分析 | 第12-13页 |
| ·抗EMI材料的研究动态 | 第13-18页 |
| ·传统金属软磁合金及其在抗EMI领域的应用 | 第14-16页 |
| ·纳米晶软磁合金及其在抗EMI领域的应用 | 第16-18页 |
| ·Fe-Si-Al合金 | 第18-23页 |
| ·Fe-Si-Al合金概述 | 第18-20页 |
| ·Fe-Si-Al抗EMI材料的设计思想 | 第20-21页 |
| ·Fe-Si-Al抗EMI材料的制备工艺 | 第21-22页 |
| ·Fe-Si-Al抗EMI材料的最新研究进展 | 第22-23页 |
| ·本文研究的目的、意义及内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验方法 | 第25-34页 |
| ·扁平状Fe-Si-Al合金抗EMI材料的制备 | 第25-30页 |
| ·试样制备的工艺流程 | 第25页 |
| ·实验原材料 | 第25-26页 |
| ·实验设备 | 第26页 |
| ·实验方法 | 第26-30页 |
| ·微结构、物相及磁性能表征 | 第30-34页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第30页 |
| ·X射线衍射分析 | 第30-31页 |
| ·静磁参数测量 | 第31-32页 |
| ·频谱的测量 | 第32-34页 |
| 第三章 Fe-Si-Al合金的扁平化处理工艺研究 | 第34-41页 |
| ·Fe-Si-Al快淬带的微观形貌 | 第34-35页 |
| ·Fe-Si-Al快淬带的干磨工艺 | 第35-37页 |
| ·Fe-Si-Al快淬带的湿磨工艺 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 球磨工艺及退火处理对Fe-Si-Al合金微粉相结构和磁性能的影响 | 第41-57页 |
| ·球磨对样品微结构的影响 | 第41-45页 |
| ·球磨对样品磁性能的影响 | 第45-50页 |
| ·退火处理对已球磨样品微结构的影响 | 第50-51页 |
| ·退火处理对样品静磁性能的影响 | 第51-53页 |
| ·退火处理对样品复磁导率的影响 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 全文结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65页 |