新型热释电晶体的探索
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·热释电晶体概况 | 第9-14页 |
| ·热释电晶体材料定义及其结构特征 | 第9-10页 |
| ·热释电晶体材料的性能与应用 | 第10-11页 |
| ·热释电材料的研究动向 | 第11-12页 |
| ·甘氨酸系列研究现状 | 第12-14页 |
| ·论文研究的思路 | 第14-16页 |
| ·实验的理论依据 | 第14-15页 |
| ·甘氨酸无机盐复合晶体的选择 | 第15页 |
| ·TGS晶体掺质的选择 | 第15-16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 第2章 甘氨酸系列晶体生长 | 第17-25页 |
| ·晶体生长原理、方法与实验装置 | 第17-19页 |
| ·溶液的配制 | 第19-20页 |
| ·原料的制备 | 第19页 |
| ·掺质TGS生长溶液的配制 | 第19-20页 |
| ·晶体生长 | 第20-23页 |
| ·掺质TGS晶体生长 | 第20-23页 |
| ·甘氨酸无机盐晶体生长 | 第23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 第3章 晶体生长形态与表征 | 第25-51页 |
| ·氯化锌甘氨酸晶体形态 | 第25-32页 |
| ·DGZCD单晶结构测定 | 第26-27页 |
| ·DGZCD晶体结构分析 | 第27-31页 |
| ·TGZC的晶体结构和性能分析 | 第31-32页 |
| ·氯化锰甘氨酸晶体形态 | 第32-34页 |
| ·硫酸锂甘氨酸晶体形态 | 第34-35页 |
| ·掺质TGS系列晶体研究 | 第35-47页 |
| ·晶体生长形态研究 | 第35-43页 |
| ·晶体生长速率及机制 | 第43-44页 |
| ·晶胞参数的测定与分析 | 第44-47页 |
| ·红外光谱 | 第47-49页 |
| ·红外光谱的测定 | 第47-48页 |
| ·图谱分析 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第4章 掺质TGS系列晶体性能研究 | 第51-63页 |
| ·样品的制备 | 第51页 |
| ·介电常数的测试 | 第51-54页 |
| ·装置及原理 | 第51-52页 |
| ·测试结果及讨论 | 第52-54页 |
| ·晶体热释电性能测试 | 第54-58页 |
| ·测试装置及原理 | 第54-55页 |
| ·测试结果及讨论 | 第55-58页 |
| ·晶体电滞回线的测试 | 第58-60页 |
| ·测试装置及原理 | 第58-59页 |
| ·测试结果及讨论 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 附录 | 第69-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
