| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-9页 |
| 第二章 薄膜光学理论 | 第9-32页 |
| ·薄膜光学的电磁理论基础 | 第9-19页 |
| ·光波在界面的反射、折射 | 第19-25页 |
| ·光学薄膜系统的特性计算 | 第25-32页 |
| 第三章 膜系设计 | 第32-43页 |
| ·膜料的选择 | 第32-37页 |
| ·膜系计算 | 第37-43页 |
| 第四章 镀制前后的辅助工艺 | 第43-46页 |
| ·膜层迅速恶化的主要原因 | 第43页 |
| ·主要辅助工艺 | 第43-46页 |
| 第五章 镀制工艺 | 第46-57页 |
| ·镀膜机结构配置 | 第46-51页 |
| ·薄膜厚度的控制方法 | 第51-54页 |
| ·操作步骤及有关数据记录 | 第54-56页 |
| ·误差分析 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |