| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 文献综述与论文设想 | 第7-23页 |
| ·氮氧化物和一氧化碳的来源和危害 | 第7-9页 |
| ·氮氧化物的来源和危害 | 第7-8页 |
| ·一氧化碳的来源和危害 | 第8-9页 |
| ·氮氧化物和一氧化碳的净化技术 | 第9-22页 |
| ·氮氧化物消除方法分类 | 第9-15页 |
| ·催化直接分解法 | 第10-12页 |
| ·催化还原法 | 第12-15页 |
| ·一氧化碳的消除方法分类 | 第15-17页 |
| ·氮氧化物和一氧化碳的同时脱除 | 第17-22页 |
| ·脱除反应的确定 | 第17-18页 |
| ·NO+CO 反应机理 | 第18-22页 |
| ·本论文的主要研究工作 | 第22-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-26页 |
| ·载体及试剂的出处 | 第23页 |
| ·催化剂制备 | 第23-24页 |
| ·CU/SiO_2 催化剂的制备 | 第23页 |
| ·CU/SiO_2（载体经过处理）催化剂的制备 | 第23-24页 |
| ·CU/SiO_2-REO 的制备 | 第24页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第24页 |
| ·催化剂的表征 | 第24-26页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第24-25页 |
| ·程序升温还原（H2-TPR） | 第25页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第25页 |
| ·透射电镜（TEM） | 第25页 |
| ·红外光谱测试（UV-VIR） | 第25页 |
| ·比表面积分析（BET） | 第25页 |
| ·电感耦合等离子体光谱分析（ICP） | 第25-26页 |
| 第三章 制备方法以及活化气氛对CU/SiO_2催化剂在NO+CO反应中的活性影响 | 第26-34页 |
| ·制备方法和活化气氛对催化剂的影响 | 第26-29页 |
| ·预处理温度对于不同催化剂在NO+CO 反应中的活性影响 | 第26-28页 |
| ·活化气氛的不同对于催化剂在NO+CO 反应中的活性影响 | 第28-29页 |
| ·制备方法和活化气氛对催化剂的影响的分析 | 第29-33页 |
| ·小节 | 第33-34页 |
| 第四章 经不同温度处理的载体对于CU/SiO_2催化剂在NO+CO反应中的影响 | 第34-38页 |
| ·不同焙烧温度处理的载体对催化剂在NO+CO 反应中的影响 | 第34-35页 |
| ·不同焙烧温度处理的载体对催化剂的影响的分析 | 第35-37页 |
| ·小节 | 第37-38页 |
| 第五章 REO 助剂对于CU/SiO_2催化剂在NO+CO 反应中的影响 | 第38-49页 |
| ·反应条件的确定 | 第38-39页 |
| ·活化温度的确定 | 第38-39页 |
| ·空速的确定 | 第39页 |
| ·几种REO 助剂对于浸渍法制备的CU/SiO_2 催化剂的活性影响 | 第39-44页 |
| ·LA_2O_3 助剂的影响 | 第39-40页 |
| ·SM_2O_3 助剂的影响 | 第40-41页 |
| ·CEO_2 助剂的影响 | 第41页 |
| ·DY_2O_3 助剂的影响 | 第41-42页 |
| ·Yb_2O_3 助剂的影响 | 第42页 |
| ·ND_2O_3 助剂的影响 | 第42-44页 |
| ·对催化剂CU/SiO_2-ND_2O_3 的表征 | 第44-48页 |
| ·小节 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
