新型透明导电CuAlO2薄膜的制备及其性能表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·概述 | 第9-11页 |
| ·CuAlO_2薄膜的研究现状 | 第11-14页 |
| ·国外研究进展 | 第12-13页 |
| ·国内研究进展 | 第13-14页 |
| ·本文主要研究内容 | 第14页 |
| ·小结 | 第14-15页 |
| 第二章 CuAlO_2靶材及薄膜的制备 | 第15-22页 |
| ·靶材的制备 | 第15-16页 |
| ·CuAlO_2粉末的制备 | 第15页 |
| ·CuAlO_2靶材的制备 | 第15-16页 |
| ·靶材的分析 | 第16页 |
| ·薄膜的制备及处理 | 第16-21页 |
| ·制备样品的准备 | 第16-18页 |
| ·基片的清洗 | 第16-17页 |
| ·靶材的准备 | 第17-18页 |
| ·溅射镀膜 | 第18-20页 |
| ·样品退火处理 | 第20-21页 |
| ·小结 | 第21-22页 |
| 第三章 CuAlO_2薄膜的性能表征方法 | 第22-28页 |
| ·晶体结构表征 | 第22-23页 |
| ·表面形貌表征 | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第23页 |
| ·三维轮廓仪 | 第23-24页 |
| ·组分表征 | 第24-25页 |
| ·光学性能表征 | 第25-26页 |
| ·表面浸润性能表征 | 第26-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 第四章 退火对CuAlO_2薄膜微结构的影响 | 第28-36页 |
| ·退火温度对薄膜微结构的影响 | 第28-30页 |
| ·退火温度对薄膜晶体结构的影响 | 第28-29页 |
| ·退火温度对薄膜表面形貌的影响 | 第29-30页 |
| ·退火时间对薄膜微结构的影响 | 第30-34页 |
| ·退火时间对薄膜晶体结构的影响 | 第30-33页 |
| ·退火时间对薄膜表面形貌的影响 | 第33-34页 |
| ·小结 | 第34-36页 |
| 第五章 Al含量对CuAlO_2薄膜性能的影响 | 第36-56页 |
| ·Al含量的标定(EDS) | 第36-37页 |
| ·Al含量对薄膜微结构的影响 | 第37-41页 |
| ·Al含量对薄膜晶体结构的影响 | 第37-39页 |
| ·Al含量对薄膜表面粗糙度的影响 | 第39-41页 |
| ·Al含量对薄膜光学性能的影响 | 第41-51页 |
| ·Al含量对薄膜透射性能的影响 | 第41-45页 |
| ·Al含量对薄膜反射性能的影响 | 第45-47页 |
| ·Al含量对薄膜吸收性能的影响 | 第47-48页 |
| ·Al含量对薄膜光学带隙的影响 | 第48-51页 |
| ·Al含量对薄膜浸润性能的影响 | 第51-52页 |
| ·浸润性能 | 第51页 |
| ·Al含量对薄膜浸润性能的影响 | 第51-52页 |
| ·CuAlO_2薄膜光致浸润性研究 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54-56页 |
| 第六章 结论及展望 | 第56-59页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| ·展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第65页 |
