| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-9页 |
| ·碳纳米管概述 | 第7-8页 |
| ·本论文研究的目的 | 第8-9页 |
| 第二章 碳及掺杂碳纳米管研究现状 | 第9-30页 |
| ·碳纳米管的研究现状综述 | 第9-12页 |
| ·多壁碳纳米管的基本结构 | 第12-13页 |
| ·单壁碳纳米管的基本结构 | 第13-14页 |
| ·碳纳米管的缺陷 | 第14-15页 |
| ·碳纳米管的形貌 | 第15-17页 |
| ·掺杂碳纳米管的研究现状综述 | 第17-18页 |
| ·碳纳米管的应用前景 | 第18-20页 |
| ·碳纳米管的拉曼光谱表征 | 第20-22页 |
| ·碳及掺杂碳纳米管场致电子发射的研究进展 | 第22-23页 |
| ·场发射显示器件和材料的研究进展 | 第23-30页 |
| ·场发射显示器FED的基本原理 | 第23-25页 |
| ·FED用阴极场发射材料的研究进展 | 第25-27页 |
| ·FED显示器的研究和实用化现状 | 第27-30页 |
| 第三章 碳及掺铟碳纳米管的制备与结构形貌分析 | 第30-43页 |
| ·碳及掺杂碳纳米管的制备方法概述 | 第30-34页 |
| ·铁镍催化纯碳纳米管的制备 | 第34页 |
| ·掺铟碳纳米管的制备 | 第34-35页 |
| ·纯碳和掺铟碳纳米管的结构形貌分析 | 第35-38页 |
| ·纯碳纳米管与掺铟碳纳米管的喇曼光谱比较分析 | 第38-40页 |
| ·定向碳纳米管阵列的制备 | 第40页 |
| ·定向碳纳米管阵列的SEM照片 | 第40-42页 |
| ·结论 | 第42-43页 |
| 第四章 碳及掺铟碳纳米管的场发射性能比较研究 | 第43-56页 |
| ·电子场致发射的基本概念 | 第43-45页 |
| ·影响碳纳米管薄膜场致发射的主要因素 | 第45-46页 |
| ·场致发射的评价指标 | 第46-47页 |
| ·场致电子发射测试仪的结构与原理 | 第47页 |
| ·碳纳米管薄膜在场致发射方面的研究进展 | 第47-48页 |
| ·氮掺杂碳纳米管薄膜场致发射的研究进展 | 第48-49页 |
| ·碳及掺铟碳纳米管的场发射性能比较研究 | 第49-51页 |
| ·场发射实验中发射衰减及恢复机理的分析 | 第51-52页 |
| ·定向与非定向生长碳纳米管的场发射性能比较分析 | 第52-55页 |
| ·结论 | 第55-56页 |
| 第五章 金胶催化碳纳米管的制备与场发射性能研究 | 第56-64页 |
| ·金胶催化生长碳纳米管的制备 | 第56页 |
| ·金胶催化制备碳纳米管薄膜的形貌观察与拉曼光谱表征 | 第56-60页 |
| ·金胶催化碳纳米管的场发射性能分析研究 | 第60-62页 |
| ·结论 | 第62-64页 |
| 第六章 全文结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-76页 |
| 致谢 | 第76页 |