无机钛硅原料合成TS-1的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 前言 | 第7-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-22页 |
| ·分子筛的发展 | 第9-10页 |
| ·钛硅分子筛的制备 | 第10-14页 |
| ·水热法 | 第11-13页 |
| ·同晶取代法 | 第13-14页 |
| ·TS-1 的表征方法 | 第14-18页 |
| ·X-射线衍射（XRD） | 第15页 |
| ·傅立叶变换红外光谱（FT-IR） | 第15-16页 |
| ·紫外漫反射光谱（UV-Vis） | 第16-17页 |
| ·拉曼光谱（Raman） | 第17页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第17页 |
| ·X –射线光电子能谱（XPS） | 第17-18页 |
| ·钛硅分子筛在催化上的应用 | 第18-21页 |
| ·烯烃环氧化反应 | 第18-19页 |
| ·芳烃羟基化反应 | 第19页 |
| ·酮氨氧化反应 | 第19-21页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第21-22页 |
| 第二章 以无机钛硅原料合成TS-1 的研究 | 第22-37页 |
| ·前言 | 第22-23页 |
| ·实验部分 | 第23-24页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第23页 |
| ·用无机钛硅原料合成TS-1 | 第23-24页 |
| ·TS-1 晶种的合成 | 第24页 |
| ·TS-1 的表征 | 第24-25页 |
| ·XRD | 第24-25页 |
| ·IR | 第25页 |
| ·SEM | 第25页 |
| ·UV-Vis | 第25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-34页 |
| ·IR | 第26-27页 |
| ·XRD | 第27-28页 |
| ·UV-Vis | 第28-29页 |
| ·SEM | 第29-32页 |
| ·晶种晶化时间的影响 | 第32-34页 |
| ·促进剂的影响 | 第34-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 第三章 以有机钛硅原料合成TS-1 的研究 | 第37-44页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·实验部分 | 第37-39页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第37-38页 |
| ·离子交换法制备TPAOH | 第38页 |
| ·有机钛硅原料合成TS-1 | 第38-39页 |
| ·丙烯环氧化反应 | 第39页 |
| ·TS-1 的表征 | 第39页 |
| ·IR | 第39页 |
| ·SEM | 第39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-43页 |
| ·硅源加入方式的影响 | 第39-40页 |
| ·硅源水解时间的影响 | 第40-41页 |
| ·异丙醇加入量的影响 | 第41-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-51页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第51-52页 |
| 附录 | 第52-57页 |
| 1. 丙烯环氧化反应体系分析方法 | 第52页 |
| 2. 内标标准曲线 | 第52-53页 |
| 3. 滴定双氧水用溶液的配制 | 第53页 |
| 4. Na_2S_2O_3溶液的标定 | 第53-54页 |
| 5. 间接碘量法滴定 | 第54-55页 |
| 6. 转化率、选择性和收率的求算方法 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
