快速热处理在太阳电池中的应用
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 简介 | 第10-14页 |
| §1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| §1.2 论文主题 | 第11-12页 |
| §1.3 论文提纲 | 第12-14页 |
| 第二章 文献综述 | 第14-37页 |
| §2.1 引言 | 第14页 |
| §2.2 太阳能概述 | 第14-15页 |
| §2.3 太阳能研究和利用历史 | 第15-17页 |
| §2.4 太阳电池的工作原理 | 第17-18页 |
| §2.5 晶体硅太阳电池的研究现状 | 第18-20页 |
| §2.6 快速热处理(RTP)技术 | 第20-22页 |
| §2.7 快速热处理与常规热处理的区别 | 第22-24页 |
| §2.8 快速热处理的应用 | 第24-26页 |
| §2.9 RTP技术在晶体硅太阳电池中的应用 | 第26-30页 |
| §2.10 RTP快速磷扩散 | 第30-37页 |
| 第三章 实验 | 第37-58页 |
| §3.1 简介 | 第37页 |
| §3.2 实验所用硅片 | 第37页 |
| §3.3 掺杂剂(液态旋涂磷源) | 第37-38页 |
| §3.4 旋涂磷源SOD | 第38-40页 |
| §3.5 预烘焙(pre-bake) | 第40-43页 |
| §3.6 磷的快速热扩散 | 第43-46页 |
| ·实验所用快速热处理炉简介 | 第43-44页 |
| ·快速热扩散 | 第44-46页 |
| §3.7 扩散后处理 | 第46-47页 |
| §3.8 方块电阻测试 | 第47-50页 |
| §3.9 扩展电阻测试 | 第50-52页 |
| §3.10 实验设计 | 第52-58页 |
| ·RTP条件下气氛对磷在硅中扩散的影响 | 第52-53页 |
| ·RTP高能光子在磷扩散中的作用 | 第53-55页 |
| ·RTP条件下磷在硅中扩散规律 | 第55-58页 |
| 第四章 结果和讨论 | 第58-84页 |
| §4.0 简介 | 第58-59页 |
| 第一节 RTP条件下气氛对磷在硅中扩散的影响 | 第59-65页 |
| §4.1.1 引言 | 第59页 |
| §4.1.2 实验结果及讨论 | 第59-63页 |
| §4.1.3 结论 | 第63-65页 |
| 第二节 RTP高能光子在磷扩散中的作用 | 第65-74页 |
| §4.2.1 引言 | 第65页 |
| §4.2.2 实验结果和讨论 | 第65-73页 |
| §4.2.3 结论 | 第73-74页 |
| 第三节 RTP条件下磷在硅中扩散规律 | 第74-82页 |
| §4.3.1 引言 | 第74页 |
| §4.3.2 实验结果和讨论 | 第74-80页 |
| §4.3.3 结论 | 第80-82页 |
| §4.4 本章总结 | 第82-84页 |
| 第五章 快速热处理法制备单晶硅太阳电池 | 第84-94页 |
| §5.1 简介 | 第84页 |
| §5.2 前言 | 第84-85页 |
| §5.3 实验过程 | 第85-86页 |
| ·实验所用硅片 | 第85页 |
| ·表面织构化 | 第85页 |
| ·快速热处理制备p-n结 | 第85-86页 |
| ·快速热氧化 | 第86页 |
| ·减反射膜及丝网印刷制备电极 | 第86页 |
| §5.4 实验结果和讨论 | 第86-92页 |
| §5.5 结论 | 第92-94页 |
| 第六章 总结 | 第94-95页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96页 |
