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铸造Al-Si合金微等离子体氧化陶瓷膜的获得及其特性研究

第1章 引言第1-9页
 1.1 课题研究目的及意义第7-8页
 1.2 和本课题有关的国内外研究现状第8-9页
第2章 文献综述第9-20页
 2.1 铝的微弧氧化技术的原理第9-17页
 2.2 铝的其它表面处理技术简介第17-20页
第3章 微弧氧化工艺实验研究方案与设备第20-27页
 3.1 实验内容第20-21页
 3.2 实验材料及实验装置第21-23页
 3.3 实验试剂及仪器第23-24页
 3.4 实验的操作步骤第24-27页
第4章 微弧氧化工艺实验过程及分析第27-50页
 4.1 铸造硅铝合金ZL101A微弧氧化工艺过程及分析第27-33页
 4.2 铸造硅铝合金ZL109微弧氧化工艺过程及分析第33-49页
 4.3 铸造硅铝合金微弧氧化火花特征观察与分析第49-50页
第5章 微弧氧化陶瓷膜层的形貌特征与相结构分析第50-56页
 5.1 扫描电镜分析第50-53页
 5.2 XRD射线衍射相结构分析第53-56页
第6章 微弧氧化陶瓷膜层特性研究及火花特征分析第56-62页
 6.1 微弧氧化陶瓷膜层厚度测定第56页
 6.2 微弧氧化陶瓷膜层显微硬度测定第56-57页
 6.3 微弧氧化陶瓷膜层抗热震性研究第57-59页
 6.4 微弧氧化陶瓷膜层耐腐蚀性研究第59-60页
 6.5 微弧氧化陶瓷膜层抗冲击性研究第60-62页
第7章 实验结论第62-63页
参考文献第63-66页
致谢第66-67页
攻读硕士学位期间发表的论文第67页

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