| 图目录 | 第1-8页 |
| 表目录 | 第8-9页 |
| 摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| ·光子晶体概述 | 第13-18页 |
| ·光子晶体的概念 | 第13-14页 |
| ·光子晶体的分类及制备方法 | 第14-16页 |
| ·光子晶体的应用 | 第16-18页 |
| ·三维光子晶体的胶体化学制备方法概述 | 第18-22页 |
| ·人工合成蛋白石的制备方法 | 第18-20页 |
| ·反蛋白石的制备方法 | 第20-22页 |
| ·光子晶体中缺陷态的引入概述 | 第22-24页 |
| ·二维光子晶体光波导 | 第22-23页 |
| ·三维光子晶体缺陷 | 第23-24页 |
| ·低压化学气相沉积硅概述 | 第24-25页 |
| ·本课题立题依据和主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 Opal及反Opal光子带隙理论计算 | 第27-39页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·计算软件及方法简介 | 第27-29页 |
| ·计算结果与讨论 | 第29-38页 |
| ·二氧化硅Opal带隙计算 | 第29-30页 |
| ·硅填充模型理论计算 | 第30-33页 |
| ·硅核壳模型理论计算 | 第33-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 对流自组装法制备二氧化硅OPAL | 第39-61页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·实验材料与实验方法 | 第40-41页 |
| ·实验试剂 | 第40页 |
| ·实验仪器 | 第40页 |
| ·实验方法 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-60页 |
| ·分散剂的选择 | 第41-42页 |
| ·预处理的影响 | 第42-43页 |
| ·沉积温度的影响 | 第43-45页 |
| ·衬底放置角度的影响 | 第45-49页 |
| ·悬浊液浓度的影响 | 第49-52页 |
| ·二氧化硅Opal光学带隙变角度分析 | 第52-53页 |
| ·热处理对二氧化硅Opal光子带隙的影响 | 第53-55页 |
| ·对流自组装法制备SiO_2胶体晶体的机理讨论 | 第55-57页 |
| ·局域化微槽内二氧化硅Opal阵列的制备 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 低压化学气相沉积法制备硅反Opal | 第61-88页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·实验材料与实验方法 | 第61-67页 |
| ·实验药品与实验仪器 | 第61-62页 |
| ·实验方法 | 第62-66页 |
| ·硅三维光子晶体的表征 | 第66-67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-86页 |
| ·二氧化硅Opal模板制备硅反Opal三维光子晶体 | 第67-81页 |
| ·局域化方槽内硅反Opal的制备 | 第81页 |
| ·含面缺陷硅反蛋白石三维光子晶体制备 | 第81-82页 |
| ·PMMA胶体晶体模板制备二次复型硅反Opal三维光子晶体 | 第82-84页 |
| ·低压化学气相沉积硅(LPCVD)机理分析 | 第84-86页 |
| ·本章小结 | 第86-88页 |
| 第五章 结论 | 第88-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-95页 |
| 附录 | 第95页 |