| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-16页 |
| ·光催化剂的历史 | 第8页 |
| ·光催化剂的制备 | 第8-10页 |
| ·液相法 | 第9-10页 |
| ·胶溶-相转移法 | 第9页 |
| ·溶胶—凝胶法(Sol—Gel) | 第9-10页 |
| ·光催化剂的光催化机理 | 第10-11页 |
| ·影响光催化剂降解效果的因素 | 第11-12页 |
| ·表面态性质的影响 | 第11-12页 |
| ·晶体结构的影响 | 第12页 |
| ·提高TiO_2光催化活性的途径 | 第12-15页 |
| ·复合半导体 | 第12-13页 |
| ·掺杂金属离子 | 第13-14页 |
| ·表面光敏化 | 第14页 |
| ·贵金属沉积 | 第14-15页 |
| ·光催化剂的发展方向以及本文的主要工作 | 第15-16页 |
| 第二章 实验部分 | 第16-23页 |
| ·实验原料及仪器 | 第16-17页 |
| ·实验原料 | 第16页 |
| ·主要仪器 | 第16-17页 |
| ·实验方法 | 第17-21页 |
| ·光催化剂的制备 | 第17-20页 |
| ·磁基质(Fe_3O_4·nH_2O)的制备 | 第17-18页 |
| ·TiO_2的制备 | 第18页 |
| ·Fe_3O_4/TiO_2的制备 | 第18页 |
| ·SnO_2·nH_2O的制备 | 第18页 |
| ·SnO_2/TiO_2的制备 | 第18-19页 |
| ·Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2的制备 | 第19-20页 |
| ·样品光催化性能的测试 | 第20-21页 |
| ·光催化降解实验装置 | 第20页 |
| ·甲基橙标准曲线的测定 | 第20页 |
| ·无催化剂时甲基橙的光降解 | 第20-21页 |
| ·加催化剂时甲基橙的光降解 | 第21页 |
| ·仪器分析 | 第21-23页 |
| ·XRD分析 | 第21页 |
| ·TEM分析 | 第21-22页 |
| ·IR分析 | 第22页 |
| ·VSM分析 | 第22页 |
| ·XPS分析 | 第22-23页 |
| 第三章 实验结果与讨论 | 第23-55页 |
| ·标准曲线的测定及无催化剂时的光降解 | 第23-24页 |
| ·甲基橙标准曲线的测定 | 第23-24页 |
| ·无催化剂时溶液的光降解 | 第24页 |
| ·Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2的光催化性能 | 第24-41页 |
| ·制备温度对所制样品Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2的光催化性能的影响 | 第24-25页 |
| ·制备SnO_2·nH_2O粒子起始pH值对所制样品Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2的光催化性能的影响 | 第25-26页 |
| ·Fe_3O_4与SnO_2的摩尔比对所制样品的光催化活性影响 | 第26-28页 |
| ·Fe_3O_4含量对所制样品Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2光催化性能的影响 | 第28-29页 |
| ·SnO_2含量对所制样品Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2光催化性能的影 | 第29-30页 |
| ·Fe_3O_4和SnO_2的总量对所制样品光催化性能的影响 | 第30-31页 |
| ·焙烧温度对所制样品Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2光催化性能的影响 | 第31-32页 |
| ·焙烧时间对所制样品光催化性能的影响 | 第32-33页 |
| ·光催化剂的浓度对其光催化活性的影响 | 第33-34页 |
| ·甲基橙溶液初始浓度对所制样品光催化性能的影响 | 第34-35页 |
| ·光照时间与所降解甲基橙溶液浓度的关系 | 第35-37页 |
| ·光催化活性的比较 | 第37-38页 |
| ·H_2O_2对样品Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2光催化性能的影响 | 第38-40页 |
| ·重复使用多次的光催化效果 | 第40-41页 |
| ·样品光催化剂Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2的测试分析 | 第41-55页 |
| ·Fe_3O_4/SnO_2/TiO_2与Fe_3O_4、Fe_3O_4/TiO_2、SnO_2/TiO_2的TEM图比较 | 第41-42页 |
| ·样品的XRD分析 | 第42-46页 |
| ·样品的IR分析 | 第46-47页 |
| ·样品的磁性能分析 | 第47-49页 |
| ·样品的XPS分析 | 第49-55页 |
| 第四章 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 发表论文 | 第60页 |
