中文摘要 | 第1-6页 |
英文摘要 | 第6-7页 |
第一章 引言 | 第7-11页 |
第二章 国际研究状况 | 第11-32页 |
§2.1 国际实验研究现状 | 第11-28页 |
§2.2 国际理论研究现状 | 第28-32页 |
第三章 实验研究计划 | 第32-38页 |
§3.1 高压倍加器上的实验工作及计划 | 第32-35页 |
§3.2 低能强流加速装置上的实验计划 | 第35-38页 |
第四章 实验的难点及实验准备 | 第38-44页 |
§4.1 两次预备实验测量 | 第38-40页 |
§4.2 实验测量研究的难点 | 第40-41页 |
§4.3 实验研究的难点的解决方案 | 第41页 |
§4.4 本次实验测量的准备 | 第41-44页 |
第五章 D(d,γ)~4He反应在300 keV的测量 | 第44-57页 |
§5.1 实验装置介绍 | 第44-45页 |
§5.2 实验电子学线路及数据获取系统 | 第45-48页 |
§5.3 实验的能量刻度 | 第48-50页 |
§5.4 实验测量 | 第50-57页 |
第六章 NaI探测器对23.8 MeV γ射线的效率刻度 | 第57-68页 |
§6.1 几种刻度探测器23.8 MeV高能γ射线效率的方法 | 第57-59页 |
§6.2 NaI探测器对6.13 MeV和11.67 MeV γ射线的效率刻度 | 第59-65页 |
§6.3 Mont—Carlo计算的结果及校正 | 第65-67页 |
§6.4 Mont—Carlo计算的中子在碳酸锂石蜡中的衰减 | 第67-68页 |
第七章 数据分析处理 | 第68-81页 |
§7.1 几种求NaI脉冲高度谱中23.8MeV峰面积的方法 | 第68-70页 |
§7.2 厚靶和薄靶的数据处理结果与分析 | 第70-77页 |
§7.3 d束流注入薄靶对测量的影响 | 第77-79页 |
§7.4 实验误差分析 | 第79-80页 |
§7.5 质心系(C)与实验室系(L)的转换 | 第80-81页 |
第八章 问题的讨论和实验结论 | 第81-84页 |
参考文献 | 第84-86页 |
致谢 | 第86-87页 |
在学发表的文章 | 第87-88页 |
附录1 靶室设计图 | 第88-89页 |
附录2 屏蔽体设计图 | 第89-90页 |
附录3 MCNP计算输入文件及计算结果 | 第90-97页 |
附录4 相关程序 | 第97-102页 |
附录5 相关文献目录及摘要 | 第102-105页 |