| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-29页 |
| ·TiO_2薄膜光催化和亲水性研究背景 | 第11-12页 |
| ·光催化和亲水性的机理 | 第12-15页 |
| ·TiO_2薄膜的制备技术 | 第15-20页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第15-16页 |
| ·物理气相沉积(physical vapour deposition) | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积(chemical vapour deposition) | 第17-20页 |
| ·光催化和亲水性能的影响因素 | 第20-24页 |
| ·光催化性能的影响因素 | 第20-21页 |
| ·亲水性的影响因素 | 第21-24页 |
| ·复合和掺杂对TiO_2光催化性能的改进 | 第24-27页 |
| ·贵金属的掺杂(Pt、Ag、Rh) | 第24-25页 |
| ·复合半导体 | 第25页 |
| ·过渡金属掺杂 | 第25-26页 |
| ·氮掺杂 | 第26-27页 |
| ·选题角度的确定 | 第27-29页 |
| 第三章 实验 | 第29-38页 |
| ·原料体系的确定 | 第29-30页 |
| ·实验装置 | 第30-31页 |
| ·试样制备过程 | 第31-32页 |
| ·基板预处理 | 第31页 |
| ·TiCl_4的灌制和封装 | 第31-32页 |
| ·实验流程 | 第32页 |
| ·测试方法 | 第32-38页 |
| ·薄膜成分的测定 | 第32-33页 |
| ·薄膜的结构的测定 | 第33-34页 |
| ·表面形貌的测定 | 第34页 |
| ·薄膜光学性能的测定 | 第34页 |
| ·薄膜光催化性的测定 | 第34-36页 |
| ·薄膜亲水性的测定 | 第36-38页 |
| 第四章 常压化学气相法沉积TiO_2薄膜工艺和性能研究 | 第38-56页 |
| ·不同条件下制备的薄膜 | 第38-39页 |
| ·基板温度对薄膜的结构、表面形貌以及性能的影响 | 第39-46页 |
| ·温度对晶相的影响 | 第39-40页 |
| ·温度对表面形貌的影响 | 第40-43页 |
| ·温度对薄膜光学性能的影响 | 第43-44页 |
| ·温度对薄膜光催化性能的影响 | 第44-45页 |
| ·温度对薄膜亲水性能的影响 | 第45-46页 |
| ·载气流量对薄膜的结构、表面形貌以及性能的影响 | 第46-52页 |
| ·载气流量对薄膜光学性能的影响 | 第46-47页 |
| ·载气流量对薄膜的结晶影响 | 第47-48页 |
| ·载气流量对薄膜表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·表面物质的成分分析 | 第49-50页 |
| ·载气流量对薄膜光催化性能的影响 | 第50-51页 |
| ·载气流量对薄膜亲水性的影响 | 第51-52页 |
| ·氧气流量对薄膜结构、表面形貌以及性能的影响 | 第52-55页 |
| ·氧气流量对薄膜结构和形貌的影响 | 第52-53页 |
| ·氧气流量对薄膜光催化和亲水性能的影响 | 第53-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 第五章 N掺杂对TiO_2薄膜结构和性能的影响 | 第56-67页 |
| ·N掺杂的XPS分析 | 第56-58页 |
| ·不同掺杂量TiO_2薄膜的结构和形貌 | 第58-62页 |
| ·不同掺杂量TiO_2薄膜性能的测定 | 第62-66页 |
| ·薄膜光学性能测定 | 第62-63页 |
| ·N掺杂对薄膜光催化性能的影响 | 第63-65页 |
| ·N掺杂对薄膜亲水性能的影响 | 第65-66页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| 第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 研究生期间发表的学术论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
