| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| ·选题背景及意义 | 第8-10页 |
| ·文献综述 | 第10-16页 |
| ·本课题的研究思路、研究内容和阴极基体制备工艺流程 | 第16-20页 |
| 第2章 氧化钪掺杂钨粉的制备及特性的研究 | 第20-34页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·粉末的制备 | 第20-23页 |
| ·分析与检测的实验方法 | 第23页 |
| ·实验结果和分析 | 第23-28页 |
| ·还原后样品细化的分析与讨论 | 第28-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 阴极基体的微观结构和表面特性的研究 | 第34-55页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·烧结工艺的研究 | 第34-41页 |
| ·X-ray衍射成分分析 | 第41页 |
| ·烧结体的显微形貌和能谱分析 | 第41-46页 |
| ·烧结体的表面特性 | 第46-49页 |
| ·Sc_2O_3在基体表面富集的初步分析 | 第49-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 氧化钪掺杂钨基体阴极性能的研究 | 第55-70页 |
| ·引言 | 第55-57页 |
| ·热阴极发射特性测量原理 | 第57-60页 |
| ·逸出功的测量 | 第60-63页 |
| ·阴极制备工艺的研究 | 第63-64页 |
| ·发射特性测量 | 第64-67页 |
| ·Sc_2O_3-W阴极在加热和离子轰击下的表面成分变化 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文和申请的专利 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |