金属电沉积过程枝晶生长的分形研究
| 1． 分形几何概述 | 第1-85页 |
| 1．1 非欧氏几何学 | 第64-66页 |
| 1．2 Hausdorff维数 | 第66-68页 |
| 1．3 分形的提出 | 第68-69页 |
| 1．4 分形几何的形成及其特征 | 第69-71页 |
| 1．5 分形的定义 | 第71-74页 |
| 1．6 分形维数 | 第74-76页 |
| 1．7 分形的分类 | 第76-77页 |
| 1．8 分形维数的测定方法 | 第77-82页 |
| 1．9 分形的实际应用 | 第82-85页 |
| 2． 电沉积过程枝晶生长的计算机模拟方法 | 第85-99页 |
| 2．1 电沉积枝晶生长的研究概述 | 第85-86页 |
| 2．2 计算机模拟在枝晶生长中的应用 | 第86-88页 |
| 2．3 DLA生长的Monte Carlo模拟 | 第88-90页 |
| 2．4 DLA生长的理论基础 | 第90-92页 |
| 2．5 电沉积过程枝晶生长的模拟 | 第92-99页 |
| 3． 点电极上枝晶二维生长的模拟结果及分析 | 第99-109页 |
| 3．1 电沉积速度对生成团簇的影响 | 第99-101页 |
| 3．2 点电极形状对生成团簇的影响 | 第101-105页 |
| 3．3 形成团簇粒子数对模拟结果形貌的影响 | 第105-108页 |
| 3．4 本章小结 | 第108-109页 |
| 4． 平行板电极上枝晶二维生长的模拟结果及分析 | 第109-117页 |
| 4．1 电沉积不同阶段时的计算机模拟 | 第109-112页 |
| 4．2 不同电沉积速度时的计算机模拟 | 第112-115页 |
| 4．3 本章小结 | 第115-117页 |
| 5． 金属铜电沉积的分形研究 | 第117-132页 |
| 5．1 实验装置 | 第118-119页 |
| 5．2 金属铜电沉积过程分析 | 第119-121页 |
| 5．3 沉积过程通过实验装置电流与时间的关系 | 第121-123页 |
| 5．4 外加电压对电沉积铜产物形貌的影响 | 第123-126页 |
| 5．5 硫酸铜浓度对电沉积产物形貌的影响 | 第126-128页 |
| 5．6 温度对电沉积结果的影响 | 第128-131页 |
| 5．7 本章小结 | 第131-132页 |
| 6． 金属锌电沉积的分形研究 | 第132-145页 |
| 6．1 实验装置 | 第133-134页 |
| 6．2 金属锌电沉积过程分析 | 第134-136页 |
| 6．3 外加电压对电沉积锌产物的影响 | 第136-139页 |
| 6．4 电解质中硫酸锌浓度对沉积产物的影响 | 第139-141页 |
| 6．5 温度对电沉积结果的影响 | 第141-143页 |
| 6．6 本章小结 | 第143-145页 |
| 7． 结论与展望 | 第145-148页 |
| 参考文献 | 第148-154页 |
| 致谢 | 第154-155页 |
| 附录 | 第155页 |
