| 摘要 | 第1-12页 |
| Abstract | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-29页 |
| ·碳化硼的结构与性质 | 第14-16页 |
| ·碳化硼的微观结构 | 第14-15页 |
| ·碳化硼的物理性质 | 第15-16页 |
| ·碳化硼的化学性质 | 第16页 |
| ·碳化硼的化学气相沉积工艺 | 第16-21页 |
| ·CVD系统 | 第18-19页 |
| ·CVD工艺参数 | 第19页 |
| ·CVD过程中的热力学、动力学、传质学 | 第19页 |
| ·CVD过程与微观结构及性能的关系 | 第19-20页 |
| ·CVD过程原理和沉积机理 | 第20-21页 |
| ·CVD B_xC在陶瓷基复合材料上的应用 | 第21-22页 |
| ·CVD B_xC及自愈合陶瓷基复合材料的研究进展 | 第22-26页 |
| ·CVD B_xC的研究进展 | 第22-25页 |
| ·自愈合陶瓷基复合材料研究简介 | 第25-26页 |
| ·本文的研究目标、研究内容、研究意义 | 第26-29页 |
| ·本文的研究目标 | 第26-27页 |
| ·本文的研究内容 | 第27-28页 |
| ·本文的研究意义 | 第28-29页 |
| 第二章 实验仪器与实验方法 | 第29-33页 |
| ·主要实验仪器 | 第29页 |
| ·实验样品 | 第29-30页 |
| ·实验方法 | 第30-33页 |
| ·扫描电镜(SEM)和能谱(EDS)分析 | 第30页 |
| ·X射线衍射(XRD)物相分析 | 第30-31页 |
| ·拉曼光谱(Raman)分析 | 第31页 |
| ·红外吸收光谱(IR)分析 | 第31页 |
| ·X射线光电子能谱(xPs)分析 | 第31-32页 |
| ·透射电镜(TEM)分析 | 第32-33页 |
| 第三章 CVD B_xC涂层的微观结构及物相组成 | 第33-54页 |
| ·工艺A制备的CVD B_xC涂层的微结构表征 | 第33-47页 |
| ·工艺A的沉积参数 | 第33-35页 |
| ·沉积基底 | 第35页 |
| ·CVD B_xC涂层的微观结构及物相组成 | 第35-47页 |
| ·工艺B制备的CVD B_xC涂层的微结构表征 | 第47-53页 |
| ·SEM微观形貌观察 | 第47-48页 |
| ·XRD物相分析 | 第48-49页 |
| ·EDS元素百分含量分析 | 第49-50页 |
| ·Raman、FTIR化学组分和价键分析 | 第50-51页 |
| ·TEM微观组织结构分析 | 第51-52页 |
| ·XPS元素化学状态分析 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 CVD B_xC的沉积特性 | 第54-68页 |
| ·CVD B_xC沉积的热力学门槛温度估算 | 第54-56页 |
| ·沉积参数对沉积层质量的影响 | 第56-62页 |
| ·沉积温度对沉积产物微观结构与物相组成的影响 | 第56-59页 |
| ·BCl_3/CH_4流量比对沉积产物微观结构与物相组成的影响 | 第59-61页 |
| ·H_2/CH_4流量比对沉积产物微观结构与物相组成的影响 | 第61-62页 |
| ·CVO B_xC的沉积机理 | 第62-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 CVD B_xC的晶化及氧化行为 | 第68-87页 |
| ·CVO B_xC在高温Ar气环境中的晶化行为 | 第68-74页 |
| ·CVD B_xC在干氧气氛中的氧化行为 | 第74-78页 |
| ·CVD B_xC在湿氧气氛中的氧化行为 | 第78-82页 |
| ·CVD B_xC涂层在模拟服役环境中的微观结构与微观应力 | 第82-85页 |
| ·本章小结 | 第85-87页 |
| 总结与展望 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-96页 |
| 致谢 | 第96-97页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第97页 |
