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活性屏渗氮工艺中的溅射沉积机制研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
1 绪论第8-15页
   ·等离子体渗氮工艺第8-10页
   ·活性屏渗氮工艺与原理第10-13页
   ·本课题的研究目的和意义第13-15页
2 等离子体基本原理第15-24页
   ·等离子体中的粒子扩散第15-17页
   ·直流辉光等离子体第17-20页
   ·表面反应与表面动力学第20-24页
3 实验方法与检测第24-28页
   ·实验材料第24页
   ·活性屏渗氮装置第24-25页
   ·活性屏渗氮工艺过程第25-26页
   ·试样检测第26-28页
4 活性屏渗氮工艺中的氮传质机制第28-44页
   ·试样渗氮总量第28-30页
   ·氮传质原子团的表面过程第30-35页
   ·氮传质原子团的失活反应第35-36页
   ·氮传质原子团在正柱区中的运动第36-37页
   ·氮传质原子团的形成第37-39页
   ·活性屏渗氮机制对实验现象的解释第39-44页
结论第44-46页
参考文献第46-48页
致谢第48-49页

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