| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| ·传统制作抗反射膜的方法 | 第12-13页 |
| ·亚波长光栅抗反射层 | 第13-14页 |
| ·亚波长光栅抗反射层的应用 | 第14页 |
| ·国内外的研究现状 | 第14-16页 |
| ·本课题的提出及本文的结构安排 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-20页 |
| 第二章 亚波长光栅的等效介质理论 | 第20-29页 |
| ·等效介质理论的有效性 | 第20-22页 |
| ·光栅结构的等效介质理论 | 第22-26页 |
| ·抗反射亚波长光栅结构周期的确定 | 第22-23页 |
| ·一维亚波长光栅的偏振性 | 第23-24页 |
| ·二维亚波长光栅一阶近似 | 第24-25页 |
| ·正弦型光栅的抗反射原理分析 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-29页 |
| 第三章 全息正交二维亚波长抗反射光栅的制作与特性分析 | 第29-45页 |
| ·全息光栅简介 | 第29-32页 |
| ·全息光栅的制作原理 | 第29-31页 |
| ·光致抗蚀剂 | 第31-32页 |
| ·曝光和化学处理 | 第32页 |
| ·全息正交二维光栅的设计和制作 | 第32-39页 |
| ·对应可见波段光栅周期的界定 | 第33页 |
| ·光栅的抗反射特性与光栅深度之间的关系 | 第33-34页 |
| ·全息二维正交抗反射光栅的制作 | 第34-39页 |
| ·测试结果及其分析 | 第39-44页 |
| ·本章小结 | 第44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |
| 第四章 二维六角晶格结构抗反膜的制作与特性分析 | 第45-59页 |
| ·全息二维六角晶格结构的抗反射原理 | 第45-48页 |
| ·二维六角晶格结构的光栅结构 | 第45-46页 |
| ·计算模拟三束光干涉的光强分布 | 第46-48页 |
| ·全息二维六角晶格结构的制作 | 第48-52页 |
| ·全息术实现二维六角结构的制作原理 | 第48-50页 |
| ·全息二维六角晶格结构的制作 | 第50-52页 |
| ·全息二维六角结构抗反膜的制作 | 第52-55页 |
| ·全息模压复制工艺介绍 | 第53-54页 |
| ·全息二维光子晶体抗反膜的制作 | 第54-55页 |
| ·测试结果及其分析 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第五章 论文总结与展望 | 第59-62页 |
| ·论文总结 | 第59-60页 |
| ·工作展望 | 第60-62页 |
| 附录:攻读硕士学位期间发表学术论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |