摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第1章 绪论 | 第8-18页 |
·课题背景 | 第8-9页 |
·ZnO粒子及薄膜的研究进展 | 第9-12页 |
·ZnO材料概述 | 第9-10页 |
·ZnO薄膜的制备方法的研究进展 | 第10-12页 |
·掺杂ZnO粒子及薄膜的研究进展 | 第12-15页 |
·ZnO的n型掺杂 | 第12页 |
·ZnO的p型掺杂 | 第12-13页 |
·ZnO的带隙调整掺杂 | 第13-15页 |
·LB技术及组装纳米粒子的研究现状及进展 | 第15-17页 |
·LB技术概述 | 第15页 |
·LB技术组装纳米粒子的研究进展 | 第15-17页 |
·课题主要研究内容 | 第17-18页 |
第2章 实验材料与方法 | 第18-23页 |
·实验仪器与药品 | 第18-19页 |
·实验所需仪器及设备 | 第18页 |
·实验所需药品 | 第18-19页 |
·溶胶及粉体的制备 | 第19-20页 |
·ZnO溶胶的制备 | 第19页 |
·掺Mg ZnO溶胶的制备 | 第19页 |
·干凝胶及粉体的制备 | 第19-20页 |
·薄膜的制备 | 第20-21页 |
·基底的选择及清洗 | 第20页 |
·ZnO及Mg_xZn_(1-x)O超微粒/硬脂酸复合LB膜制备 | 第20-21页 |
·ZnO及Mg_xZn_(1-x)O超薄膜的制备 | 第21页 |
·表征与测试方法 | 第21-23页 |
·膜压-面积曲线的测定方法 | 第21-22页 |
·X-射线衍射分析 | 第22页 |
·紫外-可见光谱分析 | 第22页 |
·原子力显微镜分析 | 第22页 |
·光致发光谱分析 | 第22-23页 |
第3章 ZnO LB膜的制备与表征 | 第23-35页 |
·前言 | 第23页 |
·硬脂酸/ZnO成膜工艺参数的确定 | 第23-26页 |
·亚相浓度对硬脂酸/ZnO单分子层崩溃压的影响 | 第23-24页 |
·滑障速度对硬脂酸/ZnO单分子层崩溃压的影响 | 第24-25页 |
·铺展量对硬脂酸/ZnO单分子层崩溃压的影响 | 第25-26页 |
·硬脂酸/ZnO拉膜过程工艺参数的确定 | 第26-29页 |
·转移膜压对转移比的影响 | 第26-28页 |
·基片提拉速度对转移比的影响 | 第28-29页 |
·ZnO超薄膜的制备 | 第29页 |
·复合膜LB膜及ZnO超薄膜的表征 | 第29-33页 |
·ZnO粉体及超薄膜的X射线衍射分析 | 第29-31页 |
·紫外-可见光谱分析 | 第31-32页 |
·原子力显微镜图谱表征及分析 | 第32-33页 |
·本章小结 | 第33-35页 |
第4章 Mg_xZn_(1-x)O LB膜的制备与表征 | 第35-46页 |
·前言 | 第35页 |
·硬脂酸/ Mg_(0.2)Zn_(0.8)O成膜工艺参数的确定 | 第35-38页 |
·亚相浓度对硬脂酸/Mg_(0.2)Zn_(0.8)O单分子层崩溃压的影响 | 第35-36页 |
·滑障速度对硬脂酸/Mg_(0.2)Zn_(0.8)O单分子层崩溃压的影响 | 第36-37页 |
·铺展量对硬脂酸/Mg_(0.2)Zn_(0.8)O单分子层崩溃压的影响 | 第37-38页 |
·硬脂酸/Mg_(0.2)Zn_(0.8)O拉膜过程工艺参数的确定 | 第38-40页 |
·转移膜压对转移比的影响 | 第38-39页 |
·提拉速度对转移比的影响 | 第39-40页 |
·Mg_(0.2)Zn_(0.8)O超薄膜的制备 | 第40-41页 |
·复合LB膜及Mg_(0.2)Zn_(0.8)O超薄膜的表征 | 第41-44页 |
·X射线衍射分析 | 第41-42页 |
·紫外-可见光谱分析 | 第42-44页 |
·原子力显微镜图谱表征及分析 | 第44页 |
·本章小结 | 第44-46页 |
第5章 ZnO及Mg_xZn_(1-x)O薄膜的光学性能研究 | 第46-51页 |
·前言 | 第46页 |
·薄膜的光学性能 | 第46-50页 |
·不同掺杂量ZnO及Mg_xZn_(1-x)O薄膜的光学性能 | 第46-49页 |
·不同层数ZnO及Mg_xZn_(1-x)O薄膜的光学性能 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
结论 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-57页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第57-59页 |
致谢 | 第59页 |