摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-34页 |
·甲烷表面反应的研究现状 | 第9-11页 |
·直接转化 | 第10页 |
·甲烷部分氧化 | 第10-11页 |
·氧原子在金属表面的吸附 | 第11-12页 |
·研究表面反应的计算模型和计算方法 | 第12-21页 |
·计算模型 | 第14-15页 |
·量子化学原理与计算方法简介 | 第15-21页 |
·固体能带理论及计算方法 | 第21-27页 |
·表征催化反应的物理量以及涉及的公式 | 第27-28页 |
·VASP 软件包 | 第28-29页 |
·本研究的目的与意义 | 第29-30页 |
参考文献 | 第30-34页 |
第二章 在镍基催化剂表面吸附物种的行为 | 第34-50页 |
·计算方法和吸附剂表面模型 | 第35-36页 |
·计算方法 | 第35-36页 |
·计算模型 | 第36页 |
·结果与讨论 | 第36-47页 |
·氧原子在Ni(100)表面的吸附 | 第36-37页 |
·甲烷在镍基催化剂表面的吸附 | 第37-39页 |
·甲基在镍基催化剂表面的吸附及电子结构 | 第39-44页 |
·H/OH 在镍基催化剂表面的吸附 | 第44-45页 |
·CH_3 与H/OH 在镍基催化剂表面的共吸附研究 | 第45-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-50页 |
第三章 甲烷在镍基催化剂表面的解离 | 第50-65页 |
·计算方法和表面模型 | 第50-51页 |
·甲烷在镍基催化剂表面解离动力学机理 | 第51-58页 |
·清洁Ni(100)表面 | 第52-53页 |
·O/Ni(100)表面 | 第53-56页 |
·NiO(100)表面 | 第56-58页 |
·过渡态分析 | 第58-61页 |
·活化能垒的能量分解 | 第58-60页 |
·过渡态中CH_3 的投影态密度分析 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
第四章 甲烷在一系列金属表面的吸附解离 | 第65-79页 |
·引言 | 第65页 |
·计算方法和模型 | 第65-66页 |
·氧原子的吸附 | 第66-67页 |
·甲烷解离过程中的可能物种在金属表面的吸附 | 第67-70页 |
·甲烷解离过程的研究 | 第70-76页 |
·过渡金属表面上的甲烷吸附解离 | 第70-73页 |
·氧原子的存在对甲烷解离的影响 | 第73-76页 |
·小结 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-79页 |
第五章 结论和后期工作展望 | 第79-81页 |
·结论 | 第79页 |
·后期工作展望 | 第79-81页 |
致谢 | 第81-82页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第82页 |