| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| ·垂直腔面发射激光器介绍 | 第14-18页 |
| ·垂直腔面发射激光器的由来 | 第14-15页 |
| ·垂直腔面发射激光器的基本概念 | 第15-16页 |
| ·垂直腔面发射激光器的基本结构 | 第16-17页 |
| ·垂直腔面发射激光器的特点 | 第17-18页 |
| ·垂直腔面发射激光器的发展历史、商业化进程及应用情况 | 第18-27页 |
| ·垂直腔面发射激光器的发展历史 | 第18-20页 |
| ·垂直腔面发射激光器的商业化进程 | 第20-22页 |
| ·垂直腔面发射激光器的应用 | 第22-27页 |
| ·垂直腔面发射激光器面临的机遇与挑战 | 第27-28页 |
| ·总结 | 第28-29页 |
| ·论文的主要研究内容和论文结构安排 | 第29-31页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第29页 |
| ·论文的结构安排 | 第29-31页 |
| 第二章 垂直腔面发射激光器的理论分析 | 第31-79页 |
| ·垂直腔面发射激光器的设计方程 | 第31-44页 |
| ·有源区的设计方程 | 第31-42页 |
| ·多层膜反射镜的设计方程 | 第42-44页 |
| ·垂直腔面发射激光器的电特性 | 第44-60页 |
| ·VCSELs 器件的空间烧孔现象（SHB） | 第45-53页 |
| ·多层膜反射镜的电学特性 | 第53-60页 |
| ·垂直腔面发射激光器的热特性 | 第60-76页 |
| ·温度对VCSELs 稳定特性的影响 | 第61-69页 |
| ·VCSELs 的简单热模型 | 第69-76页 |
| ·本章小结 | 第76-79页 |
| 第三章 垂直腔面发射激光器的工艺研究 | 第79-103页 |
| ·半导体基本工艺技术介绍 | 第79-90页 |
| ·材料生长技术[117] | 第79-83页 |
| ·清洗 | 第83-84页 |
| ·光刻工艺 | 第84-85页 |
| ·刻蚀工艺 | 第85-87页 |
| ·湿法氧化工艺 | 第87-88页 |
| ·绝缘钝化层的生长[139] | 第88页 |
| ·电脉冲阳极氧化工艺 | 第88-89页 |
| ·生长电极 | 第89-90页 |
| ·解理压焊封装 | 第90页 |
| ·底发射工艺 | 第90-94页 |
| ·顶发射工艺 | 第94-98页 |
| ·串接工艺 | 第98-101页 |
| ·本章小结 | 第101-103页 |
| 第四章 85011m VCSEL 器件的制作、测试及结果分析 | 第103-123页 |
| ·单管VCSELs 器件 | 第104-112页 |
| ·器件结构 | 第104-106页 |
| ·器件制作工艺 | 第106-107页 |
| ·器件测试及分析 | 第107-112页 |
| ·列阵器件 | 第112-121页 |
| ·器件结构 | 第112-114页 |
| ·制作工艺 | 第114-115页 |
| ·器件测试与分析 | 第115-121页 |
| ·本章小结 | 第121-123页 |
| 第五章 垂直腔面发射激光器的串接结构 | 第123-131页 |
| ·器件结构 | 第124-125页 |
| ·制作工艺 | 第125-126页 |
| ·器件测试及分析 | 第126-129页 |
| ·本章小结 | 第129-131页 |
| 第六章 总结 | 第131-135页 |
| 参考文献 | 第135-153页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第153-157页 |
| 指导教师及作者简介 | 第157-159页 |
| 致谢 | 第159-160页 |