| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第11-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-23页 |
| 1.1 菱镁矿资源及轻烧粉概述 | 第12-13页 |
| 1.1.1 菱镁矿资源简介 | 第12页 |
| 1.1.2 轻烧粉简述 | 第12-13页 |
| 1.2 氢氧化镁阻燃剂、硅钢氧化镁概述 | 第13-15页 |
| 1.2.1 氢氧化镁及氧化镁的性质 | 第13页 |
| 1.2.2 氢氧化镁的主要用途 | 第13-14页 |
| 1.2.3 硅钢氧化镁的用途 | 第14页 |
| 1.2.4 氢氧化镁阻燃剂的优势 | 第14页 |
| 1.2.5 氢氧化镁作为阻燃剂的基本要求 | 第14-15页 |
| 1.2.6 硅钢氧化镁的基本要求 | 第15页 |
| 1.3 氢氧化镁及硅钢氧化镁的发展现状 | 第15-16页 |
| 1.3.1 氢氧化镁的国内外研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3.2 硅钢氧化镁的国内外研究生产现状 | 第16页 |
| 1.4 氢氧化镁及硅钢氧化镁的制备方法 | 第16-19页 |
| 1.4.1 氢氧化镁的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.4.2 硅钢氧化镁的制备方法 | 第17-19页 |
| 1.5 氢氧化镁、硅钢氧化镁研究存在的问题 | 第19页 |
| 1.5.1 氢氧化镁研究存在的问题 | 第19页 |
| 1.5.2 硅钢氧化镁研究存在的问题 | 第19页 |
| 1.6 晶体生长理论 | 第19-20页 |
| 1.6.1 晶体平衡形态理论 | 第19-20页 |
| 1.6.2 PBC理论 | 第20页 |
| 1.6.3 负离子配位多面体理论 | 第20页 |
| 1.7 Materials Studio软件在材料领域中的应用 | 第20页 |
| 1.8 本课题的研究基础 | 第20-22页 |
| 1.8.1 研究基础 | 第20-21页 |
| 1.8.2 研究成果 | 第21-22页 |
| 1.9 本课题研究意义与研究内容 | 第22-23页 |
| 1.9.1 研究意义 | 第22页 |
| 1.9.2 研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验原料与产品分析表征方法 | 第23-28页 |
| 2.1 实验药品 | 第23-26页 |
| 2.1.1 氢氧化镁制备实验装置图 | 第24-25页 |
| 2.1.2 沉镁反应装置图 | 第25页 |
| 2.1.3 实验流程图 | 第25-26页 |
| 2.3 相关离子浓度的测定 | 第26页 |
| 2.3.1 镁、钙离子浓度的测定 | 第26页 |
| 2.3.2 硫酸根离子浓度测定 | 第26页 |
| 2.4 样品分析表征 | 第26-28页 |
| 2.4.1 产品XRD分析 | 第26页 |
| 2.4.2 产品SEM分析 | 第26页 |
| 2.4.3 产品TG-DTA分析 | 第26-27页 |
| 2.4.4 产品BET分析 | 第27页 |
| 2.4.5 白度计 | 第27-28页 |
| 第三章 氢氧化镁制备的实验影响因素分析 | 第28-44页 |
| 3.1 轻烧粉蒸氨过程分析 | 第28-30页 |
| 3.1.1 蒸氨时间不同对蒸氨反应的影响 | 第28-29页 |
| 3.1.2 不同NH~(4+)：MgO的摩尔比对蒸氨反应的影响 | 第29-30页 |
| 3.2 蒸氨液制备氢氧化镁的过程分析 | 第30-34页 |
| 3.2.1 低温下制备氢氧化镁 | 第30-32页 |
| 3.2.2 高温下制备氢氧化镁 | 第32-34页 |
| 3.3 蒸氨液中主要杂质离子对氢氧化镁形貌影响的分析 | 第34-37页 |
| 3.3.1 Fe~(2+)对氢氧化镁产品的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.2 Ca~(2+)对氢氧化镁产品的影响 | 第35-37页 |
| 3.4 温度与压力对氢氧化镁晶体形貌的影响 | 第37-40页 |
| 3.4.1 常压条件下温度氢氧化镁晶体形貌的影响 | 第37-38页 |
| 3.4.2 高温高压条件下氢氧化镁晶体形貌的影响 | 第38-40页 |
| 3.5 反应体系对氢氧化镁的影响 | 第40-44页 |
| 3.5.1 放大实验对氢氧化镁晶体的影响 | 第40页 |
| 3.5.2 产品形貌比较分析 | 第40-41页 |
| 3.5.3 产品XRD及TG-DSC表征分析 | 第41-43页 |
| 3.5.4 小结 | 第43-44页 |
| 第四章 氢氧化镁生长习性的理论分析 | 第44-48页 |
| 4.1 氢氧化镁晶体生长机理研究 | 第44-48页 |
| 4.1.1 生长基元 | 第44页 |
| 4.1.2 生长基元基元往晶体各面族上的叠合 | 第44-45页 |
| 4.1.3 阴离子对氢氧化镁(001)面及(101)面的影响 | 第45-48页 |
| 第五章 硅钢级氧化镁制备的影响因素分析 | 第48-54页 |
| 5.1 煅烧温度对制备硅钢级氧化镁的影响分析 | 第48-51页 |
| 5.1.1 煅烧温度与时间对氧化镁纯度的影响 | 第48-49页 |
| 5.1.2 煅烧温度与时间对氧化镁水化率的影响 | 第49页 |
| 5.1.3 煅烧温度与时间对氧化镁悬浮性的影响 | 第49-50页 |
| 5.1.4 煅烧温度与时间对氧化镁粒径的影响 | 第50-51页 |
| 5.2 煅烧温度对氧化镁形貌的影响分析 | 第51-54页 |
| 5.2.1 煅烧时间对制备硅钢氧化镁的影响 | 第52-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 6.1 结论 | 第54-55页 |
| 6.2 存在的问题与展望 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 研究生期间发表论文 | 第62页 |
