晶体硅太阳电池表面陷光结构的研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-14页 |
| 第二章 文献综述 | 第14-36页 |
| ·太阳能概述 | 第14-16页 |
| ·光伏发电的研究历史和发展状况 | 第16-20页 |
| ·太阳电池材料和器件 | 第20-26页 |
| ·太阳电池材料 | 第20-22页 |
| ·太阳电池器件及原理 | 第22-26页 |
| ·晶硅太阳电池制绒 | 第26-33页 |
| ·晶硅太阳电池的光学损失 | 第26-27页 |
| ·晶体硅太阳电池的制绒方法 | 第27-32页 |
| ·一种可用于硅片表面制绒的方法 | 第32-33页 |
| ·晶体硅太阳电池的薄片化 | 第33-35页 |
| ·本论文的研究目的和内容 | 第35-36页 |
| 第三章 实验 | 第36-42页 |
| ·实验方案 | 第36-37页 |
| ·损伤层对制绒的影响 | 第36页 |
| ·化学腐蚀法制备多孔硅结构 | 第36页 |
| ·多孔金字塔结构制作和优化 | 第36-37页 |
| ·实验设备 | 第37-38页 |
| ·化学机械抛光(CMP)机 | 第37页 |
| ·等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统 | 第37-38页 |
| ·测试设备 | 第38-41页 |
| ·紫外可见吸收(透射)光谱仪(UV-VIS) | 第38-39页 |
| ·少子寿命测试仪 | 第39-40页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第40页 |
| ·其它仪器 | 第40-41页 |
| ·实验原料 | 第41-42页 |
| 第四章 表面损伤对制绒的影响 | 第42-60页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·单晶硅表面损伤层厚度的测量 | 第42-45页 |
| ·前言 | 第42-43页 |
| ·实验 | 第43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-45页 |
| ·完全去除损伤与不去除损伤制绒的对比 | 第45-50页 |
| ·前言 | 第45页 |
| ·实验 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-49页 |
| ·抛光片的制绒特性 | 第45-47页 |
| ·损伤片的制绒特性 | 第47-49页 |
| ·本节小结 | 第49-50页 |
| ·不同程度去除表面损伤以及制绒 | 第50-58页 |
| ·前言 | 第50页 |
| ·实验 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-57页 |
| ·损伤层去除程度的确定 | 第51-53页 |
| ·硅片表面处于不同损伤层深度的制绒 | 第53-57页 |
| ·本节小结 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 化学腐蚀法制备多孔硅结构 | 第60-76页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·多孔硅生成以及结构调控 | 第60-71页 |
| ·前言 | 第60页 |
| ·实验 | 第60-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-71页 |
| ·多孔硅生成 | 第61页 |
| ·多孔硅形貌调控 | 第61-65页 |
| ·多孔硅稳定性和均匀性的控制 | 第65-68页 |
| ·生成多孔硅以及进行调控的机理分析 | 第68-71页 |
| ·多孔硅在多晶硅太阳电池制绒中的应用 | 第71-74页 |
| ·前言 | 第71-72页 |
| ·实验 | 第72页 |
| ·结果与讨论 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第六章 多孔-金字塔结构制作与优化 | 第76-84页 |
| ·引言 | 第76页 |
| ·多孔-金字塔结构制作 | 第76-81页 |
| ·前言 | 第76页 |
| ·实验 | 第76-77页 |
| ·结果和讨论 | 第77-81页 |
| ·多孔-金字塔结构优化 | 第81-83页 |
| ·前言 | 第81页 |
| ·实验 | 第81页 |
| ·结果和讨论 | 第81-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 第七章 结论 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-94页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及专利 | 第94页 |
