| 中文摘要 | 第4-6页 |
| 英文摘要 | 第6-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-22页 |
| 1.1 半导体光催化技术 | 第10-12页 |
| 1.1.1 光催化技术的原理 | 第10-12页 |
| 1.1.2 光催化技术的应用与展望 | 第12页 |
| 1.2 ZnWO_4的简介 | 第12-14页 |
| 1.2.1 ZnWO_4材料的基本性质 | 第13页 |
| 1.2.2 多孔ZnWO_4材料的制备方法 | 第13-14页 |
| 1.2.3 ZnWO_4材料与光催化 | 第14页 |
| 1.3 多孔材料简述 | 第14-18页 |
| 1.3.1 多孔材料的分类 | 第14-16页 |
| 1.3.2 多孔材料的特性 | 第16-17页 |
| 1.3.3 多孔材料的制备方法 | 第17页 |
| 1.3.4 多孔材料的应用及前景 | 第17-18页 |
| 1.4 冷冻干燥技术 | 第18-20页 |
| 1.4.1 冻干技术的原理 | 第19页 |
| 1.4.2 真空冷冻干燥的基本过程 | 第19-20页 |
| 1.4.3 真空冷冻干燥的优势 | 第20页 |
| 1.5 选题思路与研究内容 | 第20-21页 |
| 1.6 论文创新性 | 第21-22页 |
| 第二章 WO_3/ZnWO_4异质结材料的制备及其光催化性质的研究 | 第22-36页 |
| 2.1 WO_3/Zn WO4 异质结材料制备方法 | 第22-24页 |
| 2.1.1 实验试剂和实验仪器 | 第22页 |
| 2.1.2 前驱体溶液的制备 | 第22-23页 |
| 2.1.3 WO_3/ZnWO_4异质结材料的制备 | 第23-24页 |
| 2.2 WO_3/ZnWO4异质结材料的表征 | 第24-32页 |
| 2.2.1 XRD和 Raman分析 | 第24-26页 |
| 2.2.2 SEM分析及元素EDAX图像分析 | 第26页 |
| 2.2.3 BET分析 | 第26-28页 |
| 2.2.4 TG-DSC分析 | 第28-29页 |
| 2.2.5 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第29-30页 |
| 2.2.6 紫外可见漫反射谱分析 | 第30-31页 |
| 2.2.7 光致发光(PL)光谱和光电流测试 | 第31-32页 |
| 2.3 WO_3/ZnWO_4异质结材料的催化活性测试 | 第32-35页 |
| 2.3.1 光催化测试 | 第32-33页 |
| 2.3.2 光催化结果及对比分析 | 第33-34页 |
| 2.3.3 捕获实验测试及结果分析 | 第34-35页 |
| 2.3.4 光催化机理分析 | 第35页 |
| 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 ZnO/ZnWO_4异质结材料的制备及光催化性质的研究 | 第36-49页 |
| 3.1 背景介绍 | 第36页 |
| 3.2 ZnO/ZnWO_4异质结材料的制备方法 | 第36-37页 |
| 3.2.1 前驱体溶液的制备 | 第36-37页 |
| 3.2.2 ZnO/ZnWO_4异质结材料的制备 | 第37页 |
| 3.3 ZnO/ZnWO_4异质结材料的表征 | 第37-44页 |
| 3.3.1 XRD和 Raman分析 | 第37-38页 |
| 3.3.2 SEM分析及元素EDAX图像分析 | 第38-39页 |
| 3.3.3 BET分析 | 第39-40页 |
| 3.3.4 TG-DSC分析 | 第40-41页 |
| 3.3.5 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第41-42页 |
| 3.3.6 紫外可见漫反射谱分析 | 第42-43页 |
| 3.3.7 光致发光(PL)光谱和光电流测试 | 第43-44页 |
| 3.4 ZnO/ZnWO_4多孔异质结材料的催化活性测试 | 第44-47页 |
| 3.4.1 光催化测试 | 第44-45页 |
| 3.4.2 光催化结果及对比分析 | 第45页 |
| 3.4.3 捕获实验测试及结果分析 | 第45-46页 |
| 3.4.4 光催化机理分析 | 第46-47页 |
| 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 结论和展望 | 第49-50页 |
| 4.1 结论 | 第49页 |
| 4.2 展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
