基于数字工程照明的超分辨方法与技术
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 光学显微技术的发展历史 | 第10-11页 |
| 1.2 超分辨光学显微技术的发展现状 | 第11-13页 |
| 1.3 本论文的主要内容 | 第13-14页 |
| 1.4 本章小结 | 第14-15页 |
| 2 结构光照明超分辨荧光显微成像基本原理 | 第15-27页 |
| 2.1 荧光显微系统中的基础概念 | 第15-17页 |
| 2.1.1 分辨率 | 第15-16页 |
| 2.1.2 点扩散函数和传递函数 | 第16-17页 |
| 2.2 宽场荧光显微成像原理 | 第17-20页 |
| 2.3 结构光照明超分辨荧光显微成像原理和仿真 | 第20-25页 |
| 2.3.1 结构光照明显微术 | 第20-23页 |
| 2.3.2 饱和结构光照明显微术 | 第23-24页 |
| 2.3.3 盲结构光照明显微术 | 第24-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-27页 |
| 3 结构光照明超分辨显微成像系统 | 第27-38页 |
| 3.1 结构光生成模块设计 | 第27-31页 |
| 3.1.1 传统结构光产生方法 | 第27页 |
| 3.1.2 本文结构光生成方法 | 第27-28页 |
| 3.1.3 基于DMD的余弦结构光生成原理 | 第28-31页 |
| 3.2 成像系统介绍 | 第31-32页 |
| 3.2.1 成像光路 | 第31页 |
| 3.2.2 标定方式 | 第31-32页 |
| 3.3 基于DMD的结构光照明超分辨显微成像系统 | 第32-37页 |
| 3.3.1 激光光源介绍 | 第34页 |
| 3.3.2 数字微镜器件(DMD)介绍 | 第34-36页 |
| 3.3.3 二向色镜和滤光片 | 第36-37页 |
| 3.3.4 CCD | 第37页 |
| 3.4 制作荧光颗粒样品 | 第37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 4 图样估算傅里叶层叠显微术 | 第38-48页 |
| 4.1 原理 | 第38-42页 |
| 4.1.1 成像过程的正演模型 | 第39-40页 |
| 4.1.2 照明图样和样品图像重构 | 第40-42页 |
| 4.2 仿真结果 | 第42-45页 |
| 4.2.1 分辨率 | 第42-43页 |
| 4.2.2 抗位移能力 | 第43-44页 |
| 4.2.3 抗噪力 | 第44页 |
| 4.2.4 像差校正能力 | 第44-45页 |
| 4.3 实验结果 | 第45-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 5 线性SIM的软件结构 | 第48-52页 |
| 5.1 功能模块概述 | 第48-50页 |
| 5.2 实验结果 | 第50-51页 |
| 5.3 本章小结 | 第51-52页 |
| 6 总结与展望 | 第52-54页 |
| 6.1 总结 | 第52页 |
| 6.2 改进与展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 作者简历 | 第59页 |
