| 中文摘要 | 第11-13页 |
| ABSTRACT | 第13-15页 |
| 第一章 绪论 | 第16-38页 |
| 1.1 引言 | 第16-17页 |
| 1.2 腔光力学的研究进展 | 第17-19页 |
| 1.3 腔光力学基本理论 | 第19-28页 |
| 1.3.1 光学腔 | 第19-22页 |
| 1.3.2 机械谐振子 | 第22-24页 |
| 1.3.3 光力耦合 | 第24-27页 |
| 1.3.4 本论文中使用的物理参数符号及其对应的物理意义 | 第27-28页 |
| 1.4 本论文内容安排 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-38页 |
| 第二章 薄膜腔光力(MIM)系统的色散耦合 | 第38-54页 |
| 2.1 薄膜腔光力系统的色散关系 | 第38-41页 |
| 2.2 薄膜腔光力系统的实验设计与搭建 | 第41-44页 |
| 2.3 薄膜与腔内光场的线性耦合 | 第44-49页 |
| 2.3.1 薄膜位置对腔光力系统色散的影响 | 第44-45页 |
| 2.3.2 系统光学损耗的测量 | 第45-49页 |
| 2.4 薄膜与腔内光场的非线性耦合 | 第49-51页 |
| 2.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第三章 高机械品质因子薄膜谐振子的制备 | 第54-76页 |
| 3.1 薄膜谐振子机械损耗的来源机制 | 第54-58页 |
| 3.1.1 薄膜谐振子介绍 | 第54-56页 |
| 3.1.2 薄膜谐振子机械损耗来源 | 第56-58页 |
| 3.2 机械振子品质因子的研究现状及薄膜谐振子机械品质因子的测量 | 第58-63页 |
| 3.2.1 机械振子品质因子的研究现状 | 第58-60页 |
| 3.2.2 薄膜谐振子机械品质因子的测量 | 第60-63页 |
| 3.3 利用光纤微梁抑制声子隧穿损耗 | 第63-69页 |
| 3.3.1 胶水的选择和使用 | 第63-64页 |
| 3.3.2 使用光纤微梁抑制声子隧穿损耗的方案 | 第64-69页 |
| 3.4 利用低频谐振子抑制声子隧穿损耗 | 第69-72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 第四章 薄膜谐振子热噪声的冷却理论研究 | 第76-98页 |
| 4.1 边带冷却方案 | 第77-86页 |
| 4.1.1 边带冷却原理与朗之万方程 | 第77-82页 |
| 4.1.2 光弹簧效应与光阻尼效应 | 第82-83页 |
| 4.1.3 边带冷却方案的冷却极限 | 第83-86页 |
| 4.2 反馈冷却方案 | 第86-93页 |
| 4.2.1 反馈冷却的经典理论 | 第86-87页 |
| 4.2.2 反馈冷却的量子理论 | 第87-91页 |
| 4.2.3 反馈冷却方案的冷却极限 | 第91-93页 |
| 4.3 本章小结 | 第93页 |
| 参考文献 | 第93-98页 |
| 第五章 非可分辨边带条件下的光力四波混频理论与实验研究 | 第98-122页 |
| 5.1 光力四波混频的理论研究 | 第98-108页 |
| 5.1.1 光力四波混频研究现状及原理简述 | 第98-99页 |
| 5.1.2 非可分辨边带条件下光力四波混频理论分析 | 第99-103页 |
| 5.1.3 四波混频过程的数值仿真 | 第103-107页 |
| 5.1.4 四波混频过程的噪声分析 | 第107-108页 |
| 5.2 非可分辨边带光力系统四波混频过程的实验研究 | 第108-117页 |
| 5.2.1 基于MIM系统的四波混频实验设计 | 第109-114页 |
| 5.2.2 光辐射压诱导四波混频过程的实验结果 | 第114-115页 |
| 5.2.3 光力四波混频的操控 | 第115-116页 |
| 5.2.4 高增益窄线宽光放大器的实现 | 第116-117页 |
| 5.2.5 四波混频过程中额外噪声的测量 | 第117页 |
| 5.3 本章小结 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-122页 |
| 第六章 工作总结与展望 | 第122-124页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第124-126页 |
| 致谢 | 第126-128页 |
| 个人简况及联系方式 | 第128-130页 |
