中文摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-19页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10-12页 |
1.1.1 研究背景 | 第10-11页 |
1.1.2 研究意义 | 第11-12页 |
1.2 研究方法与研究框架 | 第12-15页 |
1.2.1 研究方法 | 第12-13页 |
1.2.2 研究框架 | 第13-15页 |
1.3 可能的创新点 | 第15页 |
1.4 概念界定 | 第15-19页 |
1.4.1 风险投资 | 第15-16页 |
1.4.2 技术创新 | 第16-18页 |
1.4.3 长期持股 | 第18-19页 |
2 理论基础与文献综述 | 第19-28页 |
2.1 相关理论 | 第19-23页 |
2.1.1 股东积极主义理论 | 第19-20页 |
2.1.2 增值服务理论 | 第20-21页 |
2.1.3 资源依赖理论 | 第21-22页 |
2.1.4 技术创新理论 | 第22页 |
2.1.5 理论框架 | 第22-23页 |
2.2 相关文献综述 | 第23-28页 |
2.2.1 风险投资的投资动机的文献综述 | 第23-24页 |
2.2.2 风险投资的投资动机影响技术创新的文献综述 | 第24-25页 |
2.2.3 不同背景风险投资影响技术创新差异性的文献综述 | 第25页 |
2.2.4 风险投资采取的对企业的管理模式的文献综述 | 第25-26页 |
2.2.5 文献评述及本文研究视角 | 第26-28页 |
3 风险投资长期持股影响企业技术创新及动态管理模式的机理分析 | 第28-44页 |
3.1 风险投资投资动机与企业技术创新的关系 | 第28-31页 |
3.1.1 风险投资的投资动机 | 第28-29页 |
3.1.2 企业技术创新的特征 | 第29-30页 |
3.1.3 风险投资的投资动机与企业技术创新的契合性 | 第30-31页 |
3.2 风险投资长期持股对企业技术创新的影响 | 第31-39页 |
3.2.1 风险投资长期持股为技术创新提供可观资金保障 | 第31-33页 |
3.2.2 风险投资长期持股为技术创新提供优质附加支持 | 第33-35页 |
3.2.3 风险投资长期持股为技术创新提供持续性正确导向 | 第35-36页 |
3.2.4 不同背景特征的风险投资长期持股影响企业技术创新的差异性 | 第36-39页 |
3.3 风险投资长期持股对企业技术创新管理模式的最佳动态选择 | 第39-44页 |
4 研究案例的选取 | 第44-49页 |
4.1 案例公司简介 | 第44-45页 |
4.1.1 晶方科技成立背景 | 第44-45页 |
4.1.2 晶方科技技术创新历程 | 第45页 |
4.2 助力案例公司的风险投资的简介及长期持股情况 | 第45-47页 |
4.2.1 外资背景风险投资英飞尼迪简介及长期持股情况 | 第45-46页 |
4.2.2 政府背景风险投资中新创投简介及长期持股情况 | 第46-47页 |
4.3 案例公司选择依据及理由 | 第47-49页 |
5 案例分析 | 第49-92页 |
5.1 外资背景与政府背景风投长期持股对晶方技术创新的共同影响 | 第49-55页 |
5.1.1 英飞尼迪与中新创投为晶方注入资金,共同供给资金 | 第49-51页 |
5.1.2 英飞尼迪与中新创投参与晶方董事会,共同参与监督控制 | 第51-55页 |
5.2 外资风投英飞尼迪长期持股提供增值服务对晶方技术创新的影响 | 第55-63页 |
5.2.1 英飞尼迪为晶方提供技术研发顾问服务 | 第55-59页 |
5.2.2 英飞尼迪为晶方提供市场营销指导服务 | 第59-60页 |
5.2.3 英飞尼迪为晶方提供招募技术人才服务 | 第60-63页 |
5.3 国有风投中新创投长期持股提供增值服务对晶方技术创新的影响 | 第63-70页 |
5.3.1 中新创投为晶方提供彻底的技术授权服务 | 第63-66页 |
5.3.2 中新创投为晶方提供政府支持服务 | 第66-70页 |
5.4 进一步分析:风险投资对晶方技术创新管理模式的动态选择 | 第70-81页 |
5.4.1 英飞尼迪对晶方技术创新管理模式的的动态选择 | 第70-77页 |
5.4.2 中新创投对晶方技术创新管理模式的的动态选择 | 第77-81页 |
5.5 英飞尼迪与中新创投长期持股对晶方技术创新影响的经济后果分析 | 第81-92页 |
5.5.1 英飞尼迪与中新创投长期持股对晶方技术创新的投入分析 | 第81-85页 |
5.5.2 英飞尼迪与中新创投长期持股对晶方技术创新的产出分析 | 第85-92页 |
6 研究结论与展望 | 第92-95页 |
6.1 研究结论和建议 | 第92-94页 |
6.2 不足和未来研究 | 第94-95页 |
参考文献 | 第95-101页 |
致谢 | 第101-102页 |