| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 课题的研究目的和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 磁控溅射简介 | 第12-14页 |
| 1.2.1 磁控溅射基本原理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 影响薄膜的性能的制备工艺参数 | 第13-14页 |
| 1.3 Ti-O薄膜简介 | 第14-19页 |
| 1.3.1 TiO_2的晶体结构 | 第14-16页 |
| 1.3.2 Ti-O薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.3.2.1 溶胶-凝胶法 | 第16页 |
| 1.3.2.2 化学气相沉积法 | 第16-17页 |
| 1.3.2.3 丝网印刷法 | 第17页 |
| 1.3.2.4 水热结晶法 | 第17页 |
| 1.3.2.5 磁控溅射法 | 第17-18页 |
| 1.3.3 Ti-O薄膜的应用领域简介 | 第18-19页 |
| 1.4 钛酸铝(Al_2TiO_5)陶瓷简介 | 第19-20页 |
| 1.5 本文的主要工作 | 第20-21页 |
| 第二章 实验原理、方法与设备 | 第21-34页 |
| 2.1 实验原理 | 第21-24页 |
| 2.1.1 薄膜的生长 | 第21-22页 |
| 2.1.2 射频反应磁控溅射原理 | 第22-24页 |
| 2.1.2.1 射频辉光放电现象简介 | 第23页 |
| 2.1.2.2 射频磁控溅射原理 | 第23-24页 |
| 2.1.2.3 反应溅射机理 | 第24页 |
| 2.2 实验简介 | 第24-26页 |
| 2.2.1 实验材料及设备介绍 | 第24-25页 |
| 2.2.2 基片预处理 | 第25-26页 |
| 2.2.3 薄膜的制备 | 第26页 |
| 2.3 薄膜性能测试与表征 | 第26-34页 |
| 2.3.1 FESEM表面形貌分析 | 第26-27页 |
| 2.3.2 XRD物相分析 | 第27-28页 |
| 2.3.3 电化学测试 | 第28-29页 |
| 2.3.4 盐雾腐蚀试验 | 第29-30页 |
| 2.3.5 拉伸试验评价薄膜与基体的结合力 | 第30-31页 |
| 2.3.6 接触角测量 | 第31页 |
| 2.3.7 Ti-O薄膜微观力学性能的分析 | 第31-34页 |
| 第三章 磁控溅射法制备Ti-O薄膜及其性能研究 | 第34-69页 |
| 3.1 过渡层厚度的选择 | 第34-36页 |
| 3.2 溅射温度对Ti-O薄膜的影响 | 第36-40页 |
| 3.2.1 不同溅射温度下Ti-O薄膜的XRD分析 | 第37-38页 |
| 3.2.2 溅射温度对Ti-O薄膜耐蚀性的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.3 溅射温度对Ti-O薄膜结合力的影响 | 第39-40页 |
| 3.3 O_2流量对Ti-O薄膜性能影响 | 第40-45页 |
| 3.3.1 O_2流量对Ti-O薄膜形貌的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.2 不同O_2流量下Ti-O薄膜的XRD分析 | 第42-43页 |
| 3.3.3 不同O_2流量对Ti-O薄膜耐蚀性的影响 | 第43-45页 |
| 3.4 溅射功率对Ti-O薄膜的影响 | 第45-56页 |
| 3.4.1 溅射功率对Ti-O薄膜形貌的影响 | 第45-46页 |
| 3.4.2 不同溅射功率下Ti-O薄膜的XRD分析 | 第46-47页 |
| 3.4.3 不同溅射功率对Ti-O氧化物薄膜耐蚀性的影响 | 第47-49页 |
| 3.4.4 溅射功率对Ti-O薄膜结合力的影响 | 第49-51页 |
| 3.4.5 溅射功率对Ti-O薄膜接触角的影响 | 第51-52页 |
| 3.4.6 溅射功率对Ti-O薄膜微观力学性能的影响 | 第52-56页 |
| 3.5 溅射气压对Ti-O薄膜的影响 | 第56-62页 |
| 3.5.1 不同溅射气压下Ti-O薄膜的XRD分析 | 第56-58页 |
| 3.5.2 不同溅射气压对Ti-O薄膜耐蚀性的影响 | 第58-60页 |
| 3.5.2.1 不同溅射气压下Ti-O薄膜的极化曲线分析 | 第58-59页 |
| 3.5.2.2 不同溅射气压下Ti-O薄膜盐雾试验分析 | 第59-60页 |
| 3.5.3 溅射气压对Ti-O薄膜结合力的影响 | 第60-62页 |
| 3.6 溅射时间对Ti-O薄膜的影响 | 第62-65页 |
| 3.6.1 溅射时间对Ti-O薄膜表面形貌的影响 | 第62-63页 |
| 3.6.2 溅射时间对Ti-O薄膜耐蚀性的影响 | 第63-64页 |
| 3.6.3 溅射时间对Ti-O薄膜接触角的影响 | 第64-65页 |
| 3.7 薄膜在支架上的结合力 | 第65-67页 |
| 3.7.1 支架沉积速率的计算 | 第65-66页 |
| 3.7.2 支架镀膜后对其结合力的初步检测 | 第66-67页 |
| 3.8 本章小结 | 第67-69页 |
| 第四章 磁控溅射法制备Ti-Al-O薄膜及其性能研究 | 第69-76页 |
| 4.1 溅射时间对Ti-Al-O薄膜的影响 | 第69-72页 |
| 4.1.1 不同溅射时间下薄膜的XRD分析 | 第69-70页 |
| 4.1.2 溅射时间对Ti-Al-O薄膜形貌的影响 | 第70-71页 |
| 4.1.3 溅射时间对Ti-Al-O薄膜耐蚀性的影响 | 第71-72页 |
| 4.2 溅射温度对Ti-Al-O薄膜性能的影响 | 第72-74页 |
| 4.2.1 不同溅射温度下薄膜的XRD分析 | 第72-73页 |
| 4.2.2 溅射温度对Ti-Al-O薄膜形貌的影响 | 第73-74页 |
| 4.2.3 不同溅射温度对Ti-Al-O薄膜的耐蚀性的影响 | 第74页 |
| 4.3 本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 结论 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
