| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| 1.1 镁及镁合金的介绍 | 第8-11页 |
| 1.1.1 镁及镁合金的性能与用途 | 第8-10页 |
| 1.1.2 镁的腐蚀特点 | 第10-11页 |
| 1.2 微弧氧化概述 | 第11-19页 |
| 1.2.1 微弧氧化技术的发展历史 | 第12-13页 |
| 1.2.2 微弧氧化研究机理 | 第13页 |
| 1.2.3 微弧氧化的研究现状 | 第13页 |
| 1.2.4 微弧氧化应用前景 | 第13-14页 |
| 1.2.5 微弧氧化技术的特点 | 第14-16页 |
| 1.2.6 微弧氧化技术的影响 | 第16-18页 |
| 1.2.7 微弧氧化电解液研究现状 | 第18-19页 |
| 1.3 ZrO_2陶瓷膜研究现状 | 第19-20页 |
| 1.4 微弧氧化封孔工艺研究现状 | 第20-21页 |
| 1.5 本课题研究的意义及主要内容 | 第21-24页 |
| 1.5.1 研究的意义 | 第21页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第21-23页 |
| 1.5.3 创新点 | 第23-24页 |
| 第二章 实验条件与方案 | 第24-28页 |
| 2.1.实验设备 | 第24-25页 |
| 2.1.1. 外加电场-微弧氧化处理设备 | 第24-25页 |
| 2.1.2. 镁合金微弧氧化处理工艺 | 第25页 |
| 2.2. 试验材料及试样制备 | 第25页 |
| 2.3. 微弧氧化溶液体系 | 第25页 |
| 2.4. 实验方案 | 第25-26页 |
| 2.5. 膜层的性能测试 | 第26-28页 |
| 2.5.1 表面形貌观察 | 第26页 |
| 2.5.2 耐蚀性测试 | 第26-27页 |
| 2.5.3 膜层物相组成分析 | 第27-28页 |
| 第三章 外电场电参数对膜层性能的影响 | 第28-42页 |
| 3.1 电解液的选择 | 第28-29页 |
| 3.2 外电场参数对膜层性能的影响 | 第29-36页 |
| 3.2.1 排除自制MAO电场对封孔的干扰，确定外电场的封孔作用 | 第29-31页 |
| 3.2.2 外电场电压对封孔的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.3 外电场作用时间对封孔的影响 | 第33-36页 |
| 3.3 0.1mol/LH_2SO_4溶液浸泡试验 | 第36-38页 |
| 3.4 电化学测试 | 第38-42页 |
| 3.4.1 电化学测试方法 | 第38-39页 |
| 3.4.2 在 3.5%NaCl溶液中的极化曲线 | 第39-42页 |
| 第四章 外电场-微弧氧化膜层物相组成分析 | 第42-46页 |
| 4.1 膜层相成分的XRD | 第42-43页 |
| 4.2 膜层元素能谱分析 | 第43-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 致谢 | 第52页 |