| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·半导体光催化氧化技术 | 第10-14页 |
| ·有关半导体光催化的相关概念 | 第10-11页 |
| ·导体光催化的基本原理 | 第11-13页 |
| ·半导体光催化技术的研究与应用现状简介 | 第13-14页 |
| ·光催化技术存在的问题 | 第14页 |
| ·光催化剂简介 | 第14-18页 |
| ·光催化剂活性的影响因素 | 第14-16页 |
| ·光催化剂的表征手段 | 第16-17页 |
| ·光催化剂的分类 | 第17-18页 |
| ·钙钛矿型氧化物的结构 | 第18-19页 |
| ·钒酸铋材料概述 | 第19-20页 |
| ·钒酸铋的晶相 | 第19-20页 |
| ·钒酸铋的几种制备方法简介 | 第20页 |
| ·立题依据 | 第20-21页 |
| ·研究内容及意义与主要结果 | 第21-23页 |
| ·研究内容及意义 | 第21-22页 |
| ·主要结果 | 第22-23页 |
| 第二章 钙钛矿型纳米材料钛酸盐的结构及其光催化性能 | 第23-34页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·实验部分 | 第23-25页 |
| ·试剂和仪器 | 第23-24页 |
| ·光催化剂的制备 | 第24页 |
| ·光催化活性评价 | 第24-25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-32页 |
| ·热重-差热分析 | 第25-26页 |
| ·最佳活性温度的确定 | 第26-27页 |
| ·光催化活性比较 | 第27-29页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第29-30页 |
| ·X-射线光电子能谱分析 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 单斜钒酸铋的制备及其可见光催化研究 | 第34-40页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验部分 | 第34-35页 |
| ·试剂和仪器 | 第34-35页 |
| ·钒酸铋的制备 | 第35页 |
| ·光催化实验 | 第35页 |
| ·熔盐实验 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-39页 |
| ·煅烧时间对活性的影响 | 第35-36页 |
| ·不同煅烧温度对活性的影响 | 第36-37页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第37-38页 |
| ·熔盐辅助法对活性的影响 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 低温条件下制备不同晶型的钒酸铋 | 第40-48页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验部分 | 第40-41页 |
| ·试剂和仪器 | 第40-41页 |
| ·钒酸铋的制备 | 第41页 |
| ·光催化实验 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-47页 |
| ·不同晶相BiVO_4的形成 | 第41-42页 |
| ·扫描电镜分析 | 第42-43页 |
| ·漫反射分析 | 第43页 |
| ·不同pH对BiVO_4晶型的影响 | 第43-44页 |
| ·pH对BiVO_4光催化活性的影响 | 第44-45页 |
| ·X-射线光电子能谱分析 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 硕士期间发表论文 | 第55页 |