| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| 1.1 引言 | 第7页 |
| 1.2 序列结构共聚物的研究进展 | 第7-11页 |
| 1.2.1 序列结构共聚物的合成进展 | 第8-11页 |
| 1.2.1.1 ATRP合成序列结构共聚物 | 第8-9页 |
| 1.2.1.2 RAFT合成序列共聚物 | 第9-10页 |
| 1.2.1.3 NMRP合成序列结构共聚物 | 第10页 |
| 1.2.1.4 ROMP合成序列结构共聚物 | 第10-11页 |
| 1.3 多分散性聚合物的研究进展 | 第11-12页 |
| 1.4 聚合诱导自组装(PISA)技术的研究进展 | 第12-16页 |
| 1.4.1 RAFT-PISA的合成研究 | 第13-14页 |
| 1.4.2 ATRP-PISA的合成研究 | 第14-15页 |
| 1.4.3 ROMP-PISA的合成研究 | 第15-16页 |
| 1.5 本论文的研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 活性阴离子聚合在序列结构共聚物合成中的应用研究 | 第17-31页 |
| 2.1 引言 | 第17-18页 |
| 2.2 实验部分 | 第18-22页 |
| 2.2.1 主要实验仪器以及试剂 | 第18-19页 |
| 2.2.2 测试仪器及测试条件 | 第19页 |
| 2.2.3 周期结构共聚物Poly(St-per-Is)的合成 | 第19-20页 |
| 2.2.4 无规结构共聚物Poly(St-ran-Is)的合成 | 第20页 |
| 2.2.5 均聚物聚苯乙烯(PS)和聚异戊二烯(PI)的合成 | 第20-21页 |
| 2.2.6 嵌段共聚物PS-b-PI的合成 | 第21-22页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第22-30页 |
| 2.3.1 周期结构共聚物Poly(St-per-Is) 的合成与表征 | 第22-24页 |
| 2.3.2 无规结构共聚物Poly(St-ran-Is)的合成与表征 | 第24页 |
| 2.3.3 均聚物PS、PI和嵌段共聚物Poly(St-b-Is)的合成与表征 | 第24-25页 |
| 2.3.4 周期结构共聚物Poly(St-per-Is)与无规结构共聚物Poly(St-ran-Is) 的结构对比 | 第25-27页 |
| 2.3.5 周期结构共聚物Poly(St-per-Is)与无规结构共聚物Poly(St-ran-Is) 的热性能对比 | 第27-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 活性阴离子聚合在多分散性聚合物合成中的应用研究 | 第31-39页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-34页 |
| 3.2.1 主要实验仪器以及试剂 | 第32页 |
| 3.2.2 测试仪器及测试条件 | 第32-33页 |
| 3.2.3 多分散性聚苯乙烯(PS)的合成 | 第33页 |
| 3.2.4 窄分布聚合物聚苯乙烯(PS)的合成 | 第33-34页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第34-38页 |
| 3.3.1 多分散性聚合物聚苯乙烯(PS)的合成与表征 | 第34-35页 |
| 3.3.2 窄分布聚合物聚苯乙烯(PS)的合成与表征 | 第35-36页 |
| 3.3.3 多分散性聚合物PS和窄分布聚合物PS的热性能研究 | 第36-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 活性阴离子聚合在聚合诱导自组装技术中的应用研究 | 第39-46页 |
| 4.1 引言 | 第39-40页 |
| 4.2 实验部分 | 第40-42页 |
| 4.2.1 主要实验仪器以及试剂 | 第40-41页 |
| 4.2.2 测试仪器及测试条件 | 第41页 |
| 4.2.3 LAP-PISA技术合成PI-b-PS | 第41-42页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第42-44页 |
| 4.3.1 LAP-PISA技术合成PI-b-PS与表征 | 第42-43页 |
| 4.3.2 纳米自组装粒子的表征 | 第43-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 结论与展望 | 第46-48页 |
| 5.1 全文总结 | 第46-47页 |
| 5.2 课题创新性与展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
