| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 引言 | 第9-11页 |
| 1.2 SmCo永磁及其防护技术研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 磁性材料微观分析方法研究现状 | 第13-17页 |
| 1.3.1 XRD在磁性材料分析中的应用 | 第13-14页 |
| 1.3.2 TEM在磁性材料分析中的应用 | 第14-15页 |
| 1.3.3 SEM/EDS在磁性材料分析中的应用 | 第15-17页 |
| 1.4 本文工作与研究意义 | 第17-19页 |
| 1.4.1 本文研究意义 | 第17页 |
| 1.4.2 本文工作 | 第17-19页 |
| 第二章 扫描电子显微镜结构与磁场对其成像影响 | 第19-28页 |
| 2.1 扫描电子显微镜结构介绍 | 第19-24页 |
| 2.1.1 镜筒结构 | 第19-21页 |
| 2.1.2 电子枪及灯丝结构 | 第21-22页 |
| 2.1.3 样品仓结构 | 第22-24页 |
| 2.2 磁性样品对SEM图像质量的影响 | 第24-27页 |
| 2.2.1 样品磁极附近高曲率磁场对SEM成像影响 | 第24-25页 |
| 2.2.2 样品磁极之间低曲率磁场对SEM成像影响 | 第25-27页 |
| 2.3 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 样品磁场方向对二次电子成像质量影响研究 | 第28-39页 |
| 3.1 背景介绍 | 第28-29页 |
| 3.2 二次电子成像原理 | 第29-30页 |
| 3.3 样品准备与实验设计 | 第30-31页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第31-37页 |
| 3.4.1 实验结果 | 第31-33页 |
| 3.4.2 理论分析与COMSOL仿真 | 第33-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 磁场对SEM二次电子模式下样品成分衬度的影响分析 | 第39-51页 |
| 4.1 背景介绍 | 第39页 |
| 4.2 背散射电子成像原理 | 第39-40页 |
| 4.3 二次电子模式下图像的成分衬度 | 第40-42页 |
| 4.4 样品准备与实验设计 | 第42-43页 |
| 4.5 实验结果讨论 | 第43-49页 |
| 4.5.1 实验结果 | 第43-45页 |
| 4.5.2 理论分析与COMSOL仿真 | 第45-49页 |
| 4.6 本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 Ni镀层SmCo永磁长期高温老化微观研究 | 第51-63页 |
| 5.1 背景介绍 | 第51页 |
| 5.2 EDS成分分析原理 | 第51-52页 |
| 5.3 SmCo磁体处理与高温老化实验 | 第52-53页 |
| 5.4 分析测试方法与结果讨论 | 第53-61页 |
| 5.4.1 高温老化SmCo磁体微观形貌分析与讨论 | 第53-58页 |
| 5.4.2 高温老化SmCo磁体成分与物相分析与结果讨论 | 第58-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第71页 |
