| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 引言 | 第12-15页 |
| 1.1.1 半导体光催化 | 第12-13页 |
| 1.1.2 半导体光催化机理 | 第13-15页 |
| 1.2 光催化基本问题 | 第15-17页 |
| 1.2.1 半导体液体接触和能带弯曲 | 第15-16页 |
| 1.2.2 光生载流子迁移 | 第16页 |
| 1.2.3 表面反应和活性晶面 | 第16-17页 |
| 1.3 MoS_2纳米材料性能简介 | 第17-24页 |
| 1.3.1 纳米材料 | 第17页 |
| 1.3.2 纳米材料的特性 | 第17-19页 |
| 1.3.3 MoS_2材料结构 | 第19页 |
| 1.3.4 纳米MoS_2的性质 | 第19-20页 |
| 1.3.5 纳米MoS_2材料的研究进展 | 第20-23页 |
| 1.3.6 MoS_2在生活生产中的应用与前景 | 第23-24页 |
| 1.4 本课题研究目的和意义 | 第24页 |
| 1.5 本课题研究的主要内容 | 第24-26页 |
| 第二章 水热法制备纳米MoS_2实验过程与研究方法 | 第26-35页 |
| 2.1 水热法 | 第26-27页 |
| 2.1.1 水热法原理 | 第26页 |
| 2.1.2 水热法的特点 | 第26-27页 |
| 2.2 水热法制备MoS_2所用的原料及仪器 | 第27-28页 |
| 2.2.1 实验所用原材料 | 第27页 |
| 2.2.2 实验所用主要仪器 | 第27-28页 |
| 2.3 水热法制备纳米MoS_2粉末的实验过程 | 第28页 |
| 2.3.1 纳米MoS_2粉末的制备 | 第28页 |
| 2.4 MoS_2粉末的测试与表征 | 第28-29页 |
| 2.4.1 X射线衍射表征(XRD) | 第28页 |
| 2.4.2 场发射扫描电镜及能谱表征(FESEM，EDS) | 第28-29页 |
| 2.4.3 高倍透射电镜表征(HRTEM) | 第29页 |
| 2.4.4 紫外-可见光谱表征(UV-vis) | 第29页 |
| 2.4.5 光致发光测试表征(PL) | 第29页 |
| 2.4.6 热力学表征(TG和DSC) | 第29页 |
| 2.5 MoS_2的光催化性能测试实验 | 第29-34页 |
| 2.5.1 光催化实验过程 | 第29-30页 |
| 2.5.2 光催化反应装置 | 第30页 |
| 2.5.3 亚甲基蓝标准曲线 | 第30-34页 |
| 2.6 理论计算方法 | 第34-35页 |
| 第三章 水热温度和时间对纳米MoS_2的制备及光催化性能的影响 | 第35-49页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 水热温度对纳米MoS_2的制备及光催化性能的影响 | 第35-40页 |
| 3.2.1 实验方法 | 第35页 |
| 3.2.2 水热温度对产物结晶性的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.3 水热温度对产物形貌的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.4 不同水热温度下产物的EDS分析 | 第38-39页 |
| 3.2.5 水热温度对产物光催化性能的影响 | 第39-40页 |
| 3.3 水热时间对纳米MoS_2的制备及光催化性能的影响 | 第40-45页 |
| 3.3.1 实验方法 | 第40页 |
| 3.3.2 水热时间对产物结晶性的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.3 水热时间对产物形貌的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.4 不同水热时间下产物EDS分析 | 第43-44页 |
| 3.3.5 水热时间对产物光催化性能的影响 | 第44-45页 |
| 3.4 水热条件及花状纳米MoS_2生长机理 | 第45-47页 |
| 3.4.1 水热压强计算 | 第45-46页 |
| 3.4.2 晶体生长动力学分析 | 第46-47页 |
| 3.4.3 花状纳米MoS_2生长机理 | 第47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 硫钼比对MoS_2的制备及光催化性能的影响 | 第49-65页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 实验方法 | 第49页 |
| 4.3 S/Mo对产物结晶性的影响 | 第49-50页 |
| 4.4 S/Mo比对产物低倍率下形貌的影响 | 第50-52页 |
| 4.5 S/Mo比对产物高倍率下形貌的影响和EDS分析 | 第52-53页 |
| 4.6 S/Mo对产物光催化性能的影响 | 第53-55页 |
| 4.6.1 S/Mo比对纳米MoS_2光催化性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.6.2 S/Mo比对纳米MoS_2光催速率的影响 | 第54-55页 |
| 4.7 样品总体暴露晶面的变化 | 第55-58页 |
| 4.7.1 XRD分析 | 第55-56页 |
| 4.7.2 纳米MoS_2的HRTEM表征分析 | 第56-57页 |
| 4.7.3 S/Mo比对催化影响的机理分析 | 第57-58页 |
| 4.8 纳米MoS_2对比试验及吸附研究 | 第58-60页 |
| 4.8.1 与P25、空白组光催化对比试验 | 第58-59页 |
| 4.8.2 对亚甲基蓝的暗态吸附 | 第59-60页 |
| 4.9 水热制备纳米MoS_2薄膜及其催化性能研究 | 第60-63页 |
| 4.9.1 纳米MoS_2薄膜及其结晶性研究 | 第60页 |
| 4.9.2 纳米MoS_2薄膜的形貌和EDS分析 | 第60-61页 |
| 4.9.3 纳米MoS_2薄膜的光催性研究 | 第61-63页 |
| 4.10本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 纳米MoS_2的模拟分析及光催化活性位研究 | 第65-73页 |
| 5.1 引言 | 第65页 |
| 5.2 TG和DSC分析 | 第65-66页 |
| 5.3 吸光分析 | 第66页 |
| 5.4 带隙计算 | 第66-67页 |
| 5.5 光致发光分析 | 第67-68页 |
| 5.6 模拟计算 | 第68-71页 |
| 5.6.1 模拟能带结构及态密度 | 第68-69页 |
| 5.6.2 静电势分析 | 第69-71页 |
| 5.7 纳米MoS_2的催化路径及面向 | 第71-72页 |
| 5.8 本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结论与展望 | 第73-75页 |
| 6.1 主要结论 | 第73-74页 |
| 6.2 展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 学习期间发表的学术论文 | 第82页 |
