| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 电子枪设计国内外研究动态 | 第11-12页 |
| 1.3 电子光学CAD软件 | 第12-13页 |
| 1.4 本文主要内容与创新 | 第13页 |
| 1.5 论文组织结构 | 第13-15页 |
| 第二章 行波管电子枪基本理论 | 第15-21页 |
| 2.1 电子枪基本理论及主要参量 | 第15-16页 |
| 2.2 栅控电子枪 | 第16-18页 |
| 2.3 带状注电子枪 | 第18-20页 |
| 2.4 本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 栅控电子枪的设计研究 | 第21-43页 |
| 3.1 无栅电子枪结构变化对电子枪性能的影响 | 第21-26页 |
| 3.1.1 聚焦极形状对无栅电子枪的影响 | 第21-23页 |
| 3.1.2 阳极形状对无栅电子枪的影响 | 第23-26页 |
| 3.2 栅控电子枪结构变化对电子枪性能的影响 | 第26-37页 |
| 3.2.1 聚焦极形状对栅控电子枪的影响 | 第26-27页 |
| 3.2.2 阳极形状对栅控电子枪的影响 | 第27-28页 |
| 3.2.3 栅网结构对栅控电子枪的影响 | 第28-37页 |
| 3.2.3.1 不同栅丝层横丝数的敏感性分析 | 第29-30页 |
| 3.2.3.2 栅丝层数对栅控电子枪性能的影响 | 第30-34页 |
| 3.2.3.3 栅网位置敏感性分析 | 第34-36页 |
| 3.2.3.4 栅网宽度与厚度敏感性分析 | 第36-37页 |
| 3.3 栅控电子枪的设计与优化 | 第37-39页 |
| 3.4 栅控电子枪设计优化实例 | 第39-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 Wiggler磁场下的带状电子注传输特性研究 | 第43-55页 |
| 4.1 带凹槽wiggler磁场对带状电子注聚焦性能研究 | 第43-48页 |
| 4.1.1 带凹槽与不带凹槽wiggler磁场对带状注的聚焦性能对比 | 第43-47页 |
| 4.1.2 凹槽尺寸对聚焦性能的影响 | 第47-48页 |
| 4.2 阶梯凹槽 | 第48-51页 |
| 4.3 栅控带状注电子枪设计 | 第51-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 总结与展望 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第59-60页 |
