| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 太阳电池工作原理 | 第12-13页 |
| 1.3 CIS/CIGS薄膜太阳电池 | 第13-16页 |
| 1.3.1 CIS/CIGS薄膜太阳电池发展历史 | 第13-15页 |
| 1.3.2 CIS/CIGS薄膜太阳电池结构与各层工作原理 | 第15-16页 |
| 1.4 CIS/CIGS薄膜制备方法 | 第16-19页 |
| 1.4.1 蒸发法 | 第17页 |
| 1.4.2 溅射法 | 第17-18页 |
| 1.4.3 丝网印刷法 | 第18-19页 |
| 1.4.4 电沉积法 | 第19页 |
| 1.5 CuSbSe_2薄膜太阳电池 | 第19-21页 |
| 1.6 本论文研究内容和方案 | 第21-23页 |
| 2 实验方法及薄膜表征方法 | 第23-25页 |
| 2.1 实验方法 | 第23-24页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第23页 |
| 2.1.3 溶液体系 | 第23-24页 |
| 2.2 薄膜表征方法简介 | 第24-25页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第24页 |
| 2.2.2 扫描电镜分析(SEM)及能谱分析(EDS) | 第24页 |
| 2.2.3 紫外-可见-近红外(UV-VIS-NIR) | 第24页 |
| 2.2.4 台阶仪 | 第24-25页 |
| 3 CuSbSe_2薄膜的电沉积制备与光电性能研究 | 第25-37页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 实验过程 | 第25-26页 |
| 3.3 CuSbSe_2电沉积机理与电势选取 | 第26-31页 |
| 3.3.1 CuSbSe_2电沉积机理 | 第26-30页 |
| 3.3.2 CuSbSe_2电沉积沉积电势的选取 | 第30-31页 |
| 3.4 CuSbSe_2薄膜性能研究 | 第31-36页 |
| 3.4.1 CuSbSe_2薄膜结构研究 | 第31-33页 |
| 3.4.2 CuSbSe_2薄膜光学性能研究 | 第33-34页 |
| 3.4.3 CuSbSe2薄膜光电性能研究 | 第34-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 4 CuSbSe_2薄膜快速热处理研究 | 第37-52页 |
| 4.1 热处理方式的选取 | 第37-38页 |
| 4.2 快速热处理炉及实验过程 | 第38-39页 |
| 4.2.1 试验设备 | 第38-39页 |
| 4.2.2 试验过程 | 第39页 |
| 4.3 快速热处理温度对薄膜组分、形貌、结构的影响 | 第39-44页 |
| 4.3.1 快速热处理温度对薄膜组分的影响 | 第39-41页 |
| 4.3.2 快速热处理温度对薄膜形貌的影响 | 第41-42页 |
| 4.3.3 快速热处理温度对薄膜结构的影响 | 第42-44页 |
| 4.4 快速热处理保温时间对薄膜组分、形貌、结构的影响 | 第44-47页 |
| 4.4.1 快速热处理保温时间对薄膜组分的影响 | 第44-45页 |
| 4.4.2 快速热处理保温时间对薄膜形貌的影响 | 第45-46页 |
| 4.4.3 快速热处理保温时间对薄膜结构的影响 | 第46-47页 |
| 4.5 快速热处理升温速率对薄膜组分、形貌、结构的影响 | 第47-51页 |
| 4.5.1 快速热处理升温速率对薄膜组分的影响 | 第47-48页 |
| 4.5.2 快速热处理升温速率对薄膜形貌的影响 | 第48页 |
| 4.5.3 快速热处理升温速率对薄膜结构的影响 | 第48-51页 |
| 4.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 5 CuSbSe_2太阳电池器件制备及改性研究 | 第52-63页 |
| 5.1 引言 | 第52页 |
| 5.2 CuSbSe_2太阳电池器件制备 | 第52-55页 |
| 5.2.1 实验过程 | 第52-53页 |
| 5.2.2 快速热处理CuSbSe_2薄膜光电性能研究 | 第53页 |
| 5.2.3 器件测试与表征 | 第53-55页 |
| 5.3 CuSbSe_2预制层后硒化制备Cu_3SbSe_4太阳电池器件 | 第55-56页 |
| 5.3.1 硒化热处理薄膜的形貌及结构 | 第55-56页 |
| 5.3.2 硒化热处理薄膜的光电性能 | 第56页 |
| 5.4 CuSbSe_2预制层后硫化热处理制备CuSb(Se_x,S_(1-x))_2太阳电池器件 | 第56-62页 |
| 5.4.1 硫化热处理组分研究 | 第57页 |
| 5.4.2 硫化热处理薄膜形貌及结构研究 | 第57-59页 |
| 5.4.3 硫化处理薄膜光学性能研究 | 第59-60页 |
| 5.4.4 硫化热处理薄膜器件制备 | 第60-62页 |
| 5.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 6 结论与展望 | 第63-65页 |
| 6.1 主要结论 | 第63页 |
| 6.2 下一步工作开展方向 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果目录 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
