| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 GaAs 基多结太阳电池 | 第9-13页 |
| 1.1.1 GaAs 基多结太阳电池的基本原理 | 第9-10页 |
| 1.1.2 GaAs 基多结太阳电池的发展 | 第10-13页 |
| 1.2 GaAs 基多结太阳电池减反射膜的发展现状及趋势 | 第13-17页 |
| 1.2.1 减反射膜及其制备方法 | 第13-15页 |
| 1.2.2 多结太阳电池减反射膜的发展现状 | 第15-16页 |
| 1.2.3 多结太阳电池减反射膜的发展趋势 | 第16-17页 |
| 1.3 本文的选题缘由 | 第17页 |
| 1.4 本文的研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 新型宽光谱纳米减反射膜系的优化设计 | 第19-33页 |
| 2.1 减反射膜的工作原理 | 第19-22页 |
| 2.2 减反射膜材料的选择 | 第22-24页 |
| 2.3 新型宽光谱三层纳米减反射膜的优化设计 | 第24-28页 |
| 2.3.1 膜系设计理论 | 第24-26页 |
| 2.3.2 计算结果与分析 | 第26-28页 |
| 2.4 Al_2O_3/SiO_2/N 膜系的反射率性能分析 | 第28-31页 |
| 2.4.1 窗口层厚度变化对膜系 Re的影响 | 第28-29页 |
| 2.4.2 各层折射率变化对膜系 Re的影响 | 第29-30页 |
| 2.4.3 各层物理厚度变化对膜系 Re的影响 | 第30页 |
| 2.4.4 其他误差变化对膜系 Re的影响 | 第30-31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 溶胶-凝胶法制备 Al_2O_3/SiO_2/N 纳米减反射膜 | 第33-42页 |
| 3.1 溶胶-凝胶法 | 第33-35页 |
| 3.1.1 溶胶-凝胶法的原理及过程 | 第33页 |
| 3.1.2 溶胶-凝胶法的优缺点[45] | 第33-34页 |
| 3.1.3 溶胶-凝胶法制备薄膜的方法 | 第34-35页 |
| 3.2 实验原料及使用仪器 | 第35-36页 |
| 3.2.1 实验原料 | 第35页 |
| 3.2.2 使用仪器 | 第35-36页 |
| 3.3 Al_2O_3/SiO_2/N 纳米减反射膜的制备过程 | 第36页 |
| 3.3.1 衬底的清洗 | 第36页 |
| 3.3.2 纳米减反射膜的制备过程 | 第36页 |
| 3.4 膜系的性能表征 | 第36-41页 |
| 3.4.1 分光光度计 | 第37页 |
| 3.4.2 X 射线衍射仪(XRD) | 第37-38页 |
| 3.4.3 扫描电镜 | 第38-39页 |
| 3.4.4 椭圆偏振光谱仪 | 第39-41页 |
| 3.5 小结 | 第41-42页 |
| 第4章 纳米减反射膜的制备与性能分析 | 第42-55页 |
| 4.1 Al_2O_3薄膜的制备 | 第42页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第42-46页 |
| 4.2.1 异丙醇铝浓度对勃姆石溶胶的影响 | 第42-43页 |
| 4.2.2 水解温度和时间对勃姆石溶胶的影响 | 第43页 |
| 4.2.3 Al_2O_3薄膜镀制过程的研究 | 第43-45页 |
| 4.2.4 Al_2O_3薄膜的 XRD 分析 | 第45页 |
| 4.2.5 Al_2O_3薄膜的表面形貌分析 | 第45-46页 |
| 4.3 SiO_2薄膜的制备 | 第46-47页 |
| 4.4 实验结果与分析 | 第47-51页 |
| 4.4.1 SiO_2薄膜镀制过程的研究 | 第47-49页 |
| 4.4.2 SiO_2薄膜的 XRD 分析 | 第49页 |
| 4.4.3 SiO_2薄膜的表面形貌分析 | 第49-50页 |
| 4.4.4 SiO_2薄膜折射率的调节 | 第50-51页 |
| 4.5 三层纳米减反射膜的制备 | 第51-53页 |
| 4.6 实验结果与分析 | 第53-54页 |
| 4.7 本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 主要结论 | 第55-56页 |
| 5.2 存在的问题及后续工作 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和研究成果 | 第60-61页 |
| 攻读硕士学位期间参与的科研项目 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
