| 摘要 | 第3-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 TiO_2性质概述 | 第13-18页 |
| 1.2.1 TiO_2的晶体结构及物化性质 | 第13-15页 |
| 1.2.2 锐钛矿相纳米TiO_2的光催化研究 | 第15-17页 |
| 1.2.3 TiO_2在光催化应用中存在的问题及解决方法 | 第17-18页 |
| 1.3 Cu_2O半导体的概述及应用 | 第18-19页 |
| 1.3.1 Cu_2O的物化性质 | 第18页 |
| 1.3.2 Cu_2O的应用 | 第18-19页 |
| 1.4 Cu_2O的制备方法 | 第19-22页 |
| 1.4.1 热氧化法 | 第19页 |
| 1.4.2 化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| 1.4.3 溶胶凝胶法 | 第20页 |
| 1.4.4 磁控溅射法 | 第20-21页 |
| 1.4.5 电化学制备法 | 第21-22页 |
| 1.5 本论文的研究目的与意义、主要内容 | 第22-25页 |
| 1.5.1 本论文的研究目的与意义 | 第22页 |
| 1.5.2 本论文的主要内容 | 第22-25页 |
| 第二章 恒电位法制备Cu_2O/TiO_2异质结薄膜及其光电化学性能研究 | 第25-47页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 实验原料与仪器 | 第25-27页 |
| 2.3 表征与测试方法 | 第27-28页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪(XRD) | 第27页 |
| 2.3.2 场发射扫描电子显微镜(FMSEM) | 第27页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第27页 |
| 2.3.4 紫外-可见分光光度计(UV-vis) | 第27-28页 |
| 2.3.5 光致发光测试(PL) | 第28页 |
| 2.3.6 各种电化学测试 | 第28页 |
| 2.4 TiO_2纳米片阵列的制备 | 第28-29页 |
| 2.5 采用恒电位法制备Cu_2O/TiO_2异质结薄膜 | 第29-30页 |
| 2.5.1 沉积电解液的配制 | 第29页 |
| 2.5.2 恒电位法电沉积Cu_2O | 第29-30页 |
| 2.6 电解液pH值对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的影响 | 第30-39页 |
| 2.6.1 Cu_2O电沉积过程分析 | 第30-32页 |
| 2.6.2 物相形貌分析 | 第32-35页 |
| 2.6.3 光电化学性能分析 | 第35-39页 |
| 2.7 沉积次数对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的影响 | 第39-46页 |
| 2.8 本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 循环伏安法制备Cu_2O/TiO_2异质结薄膜及其光电性能研究 | 第47-63页 |
| 3.1 引言 | 第47页 |
| 3.2 循环伏安法制备Cu_2O/TiO_2异质结薄膜 | 第47页 |
| 3.2.1 沉积电解液的配制 | 第47页 |
| 3.2.2 循环伏安法电沉积Cu_2O | 第47页 |
| 3.3 电解液pH对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的影响 | 第47-55页 |
| 3.3.1 Cu_2O电沉积过程分析 | 第48-49页 |
| 3.3.2 物相和形貌分析 | 第49-52页 |
| 3.3.3 光电化学性能分析 | 第52-55页 |
| 3.4 沉积次数对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的影响 | 第55-61页 |
| 3.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 第四章 计时电位法制备Cu_2O/TiO_2异质结薄膜及其光电性能研究 | 第63-79页 |
| 4.1 引言 | 第63页 |
| 4.2 计时电位法制备Cu_2O/TiO_2异质结薄膜 | 第63页 |
| 4.2.1 沉积电解液的配制 | 第63页 |
| 4.2.2 计时电位法电沉积Cu_2O | 第63页 |
| 4.3 电解液pH对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的影响 | 第63-71页 |
| 4.3.1 Cu_2O电沉积过程分析 | 第64-65页 |
| 4.3.2 物相和形貌分析 | 第65-68页 |
| 4.3.3 光电化学性能分析 | 第68-71页 |
| 4.4 沉积电流密度对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的影响 | 第71-78页 |
| 4.5 本章小结 | 第78-79页 |
| 第五章 计时电流法制备Cu_2O/TiO_2异质结薄膜及其光电性能研究 | 第79-95页 |
| 5.1 引言 | 第79页 |
| 5.2 计时电流法制备Cu_2O/TiO_2异质结薄膜 | 第79页 |
| 5.2.1 沉积电解液的配制 | 第79页 |
| 5.2.2 计时电流法电沉积Cu_2O | 第79页 |
| 5.3 电解液pH对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的影响 | 第79-87页 |
| 5.3.1 Cu_2O电沉积过程分析 | 第80-81页 |
| 5.3.2 物相和形貌分析 | 第81-84页 |
| 5.3.3 光电化学性能分析 | 第84-87页 |
| 5.4 沉积次数对Cu_2O/TiO_2异质结薄膜的影响 | 第87-94页 |
| 5.5 本章小结 | 第94-95页 |
| 第六章 电化学方法制备Cu_2O/TiO_2异质结的形成及其光电催化机理研究 | 第95-105页 |
| 6.1 引言 | 第95页 |
| 6.2 表面形貌分析 | 第95-96页 |
| 6.3 电沉积过程分析 | 第96-97页 |
| 6.4 光电化学性能分析 | 第97-104页 |
| 6.5 本章小结 | 第104-105页 |
| 第七章 结论与展望 | 第105-107页 |
| 7.1 结论 | 第105-106页 |
| 7.2 展望 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-115页 |
| 致谢 | 第115-117页 |
| 攻读硕士期间研究成果 | 第117页 |
