异步轧制无取向硅钢的渗硅行为研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 高硅钢概述 | 第11-20页 |
| 1.1.1 高硅钢的发展史 | 第12页 |
| 1.1.2 高硅钢制备技术 | 第12-16页 |
| 1.1.3 高硅钢的结构和性能 | 第16-20页 |
| 1.2 异步轧制 | 第20-22页 |
| 1.2.1 异步轧制技术简介 | 第20-21页 |
| 1.2.2 异步轧制制备超细晶材料的研究进展 | 第21页 |
| 1.2.3 异步轧制与化学处理复合工艺 | 第21-22页 |
| 1.3 固体渗硅技术 | 第22-24页 |
| 1.3.1 渗剂配制 | 第22-23页 |
| 1.3.2 影响渗硅的因素 | 第23-24页 |
| 1.4 本工作的目的和内容 | 第24-25页 |
| 第二章 试样制备与研究方法 | 第25-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第25页 |
| 2.2 试样制备 | 第25-26页 |
| 2.2.1 异步轧制 | 第25页 |
| 2.2.2 渗硅 | 第25-26页 |
| 2.3 实验研究方法 | 第26-28页 |
| 2.3.1 光学显微镜 | 第26页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第26页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜 | 第26-27页 |
| 2.3.4 X射线衍射仪 | 第27-28页 |
| 第三章 异步轧制无取向硅钢的表面纳米化 | 第28-32页 |
| 3.1 横截面金相观察 | 第28页 |
| 3.2 表层XRD物相分析 | 第28-29页 |
| 3.3 表层TEM观测 | 第29-31页 |
| 3.4 小结 | 第31-32页 |
| 第四章 固体粉末渗硅 | 第32-60页 |
| 4.1 加热+保温+炉冷 | 第33-39页 |
| 4.1.1 Si+1Wt.%卤化物 | 第33-37页 |
| 4.1.2 Si+3Wt.%卤化物 | 第37-39页 |
| 4.2 加热+保温+空冷 | 第39-47页 |
| 4.2.1 保温时间变化 | 第41-43页 |
| 4.2.2 卤化物含量变化 | 第43-47页 |
| 4.3 保温+空冷 | 第47-50页 |
| 4.4 分析与讨论 | 第50-58页 |
| 4.4.1 工艺参数对渗硅层厚度的影响 | 第50-53页 |
| 4.4.2 工艺参数对表层硅含量的影响 | 第53-54页 |
| 4.4.3 渗硅层的物相组成及其影响因素 | 第54-56页 |
| 4.4.4 渗硅层致密度和表面光洁度 | 第56-58页 |
| 4.4.5 渗硅层内孔洞成因 | 第58页 |
| 4.5 小结 | 第58-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
