| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 引言 | 第8-27页 |
| 1.1 三氟甲基化反应研究背景 | 第8-10页 |
| 1.1.1 三氟甲基的理化性质 | 第9页 |
| 1.1.2 常用的三氟甲基化试剂 | 第9-10页 |
| 1.2 常见的芳烃与杂环芳烃的三氟甲基化方法 | 第10-15页 |
| 1.2.1 亲核三氟甲基化反应 | 第10-12页 |
| 1.2.2 亲电三氟甲基化反应 | 第12-15页 |
| 1.3 光催化在芳烃三氟甲基化反应中的应用 | 第15-21页 |
| 1.3.1 均相光催化剂简介及其催化原理 | 第16-17页 |
| 1.3.2 半导体光催化剂简介及催化原理 | 第17-18页 |
| 1.3.3 光催化在芳烃或杂环芳烃三氟甲基化反应中的应用 | 第18-21页 |
| 1.4 三氟甲基化苯胺类衍生物简介及常用的合成方法 | 第21-24页 |
| 1.5 立体依据与研究内容 | 第24-27页 |
| 1.5.1 立题依据 | 第24-25页 |
| 1.5.2 本论文创新及特色 | 第25-26页 |
| 1.5.3 研究内容与技术路线 | 第26-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-34页 |
| 2.1 试剂和仪器设备 | 第27-29页 |
| 2.1.1 主要试剂 | 第27-28页 |
| 2.1.2 主要仪器 | 第28-29页 |
| 2.2 试验方法 | 第29-34页 |
| 2.2.1 紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis-DRS) | 第29-30页 |
| 2.2.2 X射线粉末衍射(XRD) | 第30页 |
| 2.2.3 X射线能谱分析(XPS) | 第30页 |
| 2.2.4 电子顺磁共振(ESR) | 第30-31页 |
| 2.2.5 气相色谱-质谱联用仪(GC-MS) | 第31页 |
| 2.2.6 气相色谱(Gc) | 第31页 |
| 2.2.7 电化学测试 | 第31-32页 |
| 2.2.8 光催化实验 | 第32页 |
| 2.2.9 控制实验中的加热反应 | 第32页 |
| 2.2.10 离子色谱分析(HPIc) | 第32-33页 |
| 2.2.11 光催化剂的制备 | 第33-34页 |
| 第三章 可见光激发下氧化石墨烯诱导的芳烃三氟甲基化反应 | 第34-44页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 实验内容与结果分析 | 第35-43页 |
| 3.2.1 氧化石墨烯(GO)的制备 | 第35页 |
| 3.2.2 氧化石墨烯的物相分析、光吸收性能与电化学测试 | 第35-36页 |
| 3.2.3 可见光激发下氧化石墨烯诱导苯的三氟甲基化反应 | 第36-39页 |
| 3.2.4 GO失活原因的探究 | 第39-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 可见光半导体催化的芳烃与杂环芳烃C-H键直接三氟甲基化反应 | 第44-60页 |
| 4.1 前言 | 第44页 |
| 4.2 实验内容与结果分析 | 第44-58页 |
| 4.2.1 CdS光催化芳烃三氟甲基化控制实验 | 第44-47页 |
| 4.2.2 不同气氛对反应的影响 | 第47-48页 |
| 4.2.3 几种常见可见光半导体催化剂的扩展实验 | 第48-50页 |
| 4.2.4 可见光催化剂的稳定性测试 | 第50-51页 |
| 4.2.5 反应参数的优化 | 第51-52页 |
| 4.2.6 反应底物适用性考察 | 第52-54页 |
| 4.2.7 反应机理的探究 | 第54-57页 |
| 4.2.8 反应动力学探究 | 第57-58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 半导体可见光催化-锅法由硝基化合物制三氟甲基化胺类的初步探究 | 第60-65页 |
| 5.1 前言 | 第60页 |
| 5.2 实验内容与讨论 | 第60-64页 |
| 5.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 结论与展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-74页 |
| 附录 | 第74-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
| 在读期间已发表和待发表论文 | 第92-93页 |
| 个人简历 | 第93页 |
