| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 碳纤维的性能及应用 | 第10-11页 |
| 1.2 碳纤维的表面特性 | 第11-12页 |
| 1.3 碳纤维表面氧化处理 | 第12-14页 |
| 1.3.1 气相氧化法 | 第12-13页 |
| 1.3.2 液相氧化法 | 第13页 |
| 1.3.3 电化学氧化法 | 第13-14页 |
| 1.4 碳纤维表面涂层制备 | 第14-18页 |
| 1.4.1 气相沉积法 | 第15页 |
| 1.4.2 熔盐法 | 第15-16页 |
| 1.4.3 化学镀法 | 第16页 |
| 1.4.4 溶胶-凝胶法 | 第16页 |
| 1.4.5 水热与溶剂热法 | 第16-17页 |
| 1.4.6 浸渍法 | 第17页 |
| 1.4.7 电化学处理工艺 | 第17-18页 |
| 1.5 碳纤维表面等离子体处理 | 第18页 |
| 1.6 研究的目的和意义 | 第18-19页 |
| 1.7 本论文的研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验方法及基本原理 | 第20-24页 |
| 2.1 实验方法及基本原理简介 | 第20-21页 |
| 2.1.1 实验装置 | 第20-21页 |
| 2.1.2 原理简述 | 第21页 |
| 2.2 实验试剂 | 第21-22页 |
| 2.3 其他常规仪器 | 第22页 |
| 2.4 分析表征仪器 | 第22-24页 |
| 第3章 碳纤维表面TiO_2涂层的原位生长与工艺优化 | 第24-39页 |
| 3.1 前言 | 第24-25页 |
| 3.2 TiO_2涂层的“电化学”制备 | 第25-27页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第25-26页 |
| 3.2.2 实验条件 | 第26页 |
| 3.2.3 电解液配置 | 第26页 |
| 3.2.4 碳纤维预处理 | 第26页 |
| 3.2.5 “电化学”制备 | 第26-27页 |
| 3.2.6 样品后期处理 | 第27页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第27-37页 |
| 3.3.1 碳纤维表面涂层的形成及成分分析 | 第27-32页 |
| 3.3.2 反应时间对涂层生长的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.3 电压大小对涂层生长的影响 | 第34-36页 |
| 3.3.4 电解液组分比例对涂层生长的影响 | 第36-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 SiO_2纳米线的原位生长与工艺优化 | 第39-56页 |
| 4.1 引言 | 第39-40页 |
| 4.2 SiO_2纳米线的“电化学”制备 | 第40-42页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第40-41页 |
| 4.2.2 实验条件 | 第41页 |
| 4.2.3 碳纤维预处理 | 第41页 |
| 4.2.4 电解液配置 | 第41页 |
| 4.2.5 “电化学”制备 | 第41-42页 |
| 4.2.6 样品后期处理 | 第42页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第42-53页 |
| 4.3.1 碳纤维表面纳米线的形成及成分分析 | 第42-48页 |
| 4.3.2 SiO_2纳米线生长的发光性能解析 | 第48-49页 |
| 4.3.3 反应时间对纳米线生长的影响 | 第49-50页 |
| 4.3.4 电流强度对纳米线生长的影响 | 第50-51页 |
| 4.3.5 电解液组分比例对纳米线生长的影响 | 第51-52页 |
| 4.3.6 预处理对纳米线生长的影响 | 第52-53页 |
| 4.4 SiO_2纳米线的生长机理 | 第53-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 结论与展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |