| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-18页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 氮化硼材料与器件研究进展 | 第13-15页 |
| 1.2.1 六方氮化硼单晶材料与器件研究进展 | 第13-14页 |
| 1.2.2 六方氮化硼薄膜研究进展 | 第14-15页 |
| 1.2.3 六方氮化硼研究的难点问题 | 第15页 |
| 1.3 本论文的主要研究工作 | 第15-18页 |
| 第2章 六方氮化硼相关物理性质及表征方法 | 第18-31页 |
| 2.1 氮化硼的晶体结构 | 第18-20页 |
| 2.2 六方氮化硼的性质及应用 | 第20-24页 |
| 2.2.1 六方氮化硼相关物理化学性质 | 第20-21页 |
| 2.2.2 六方氮化硼与氮化镓、氮化铝性质的对比 | 第21-23页 |
| 2.2.3 六方氮化硼的电学性质 | 第23页 |
| 2.2.4 六方氮化硼的光学性质 | 第23-24页 |
| 2.3 六方氮化硼的制备方法 | 第24-26页 |
| 2.3.1 六方氮化硼单晶的制备 | 第24-25页 |
| 2.3.2 六方氮化硼薄膜的制备 | 第25-26页 |
| 2.4 六方氮化硼的表征方法 | 第26-31页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜表征方法 | 第26-27页 |
| 2.4.2 傅立叶变换红外光谱法 | 第27-28页 |
| 2.4.3 X射线光电子能谱 | 第28-29页 |
| 2.4.4 X射线衍射谱法 | 第29-30页 |
| 2.4.5 六方氮化硼的光学表征和电学表征 | 第30-31页 |
| 第3章 六方氮化硼薄膜稳定性的研究 | 第31-47页 |
| 3.1 氮化硼薄膜的制备过程和潮解实验 | 第31-32页 |
| 3.2 六方氮化硼薄膜潮解实验结果及分析 | 第32-35页 |
| 3.2.1 显微镜观察结果 | 第32-33页 |
| 3.2.2 傅立叶变换红外光谱表征结果 | 第33-35页 |
| 3.3 影响六方氮化硼薄膜稳定性的因素 | 第35-36页 |
| 3.4 改善氮化硼薄膜稳定性的实验研究 | 第36-37页 |
| 3.5 性能稳定的六方氮化硼薄膜的谱学表征 | 第37-43页 |
| 3.5.1 稳定的六方氮化硼薄膜的傅立叶变换红外光谱 | 第37-38页 |
| 3.5.2 X射线光电子能谱表征结果 | 第38-41页 |
| 3.5.3 X射线衍射谱的表征结果 | 第41-43页 |
| 3.6 薄膜与衬底的剥离研究 | 第43-47页 |
| 3.6.1 薄膜与衬底在去离子水中剥离现象 | 第43页 |
| 3.6.2 去离子水剥离现象的物理过程 | 第43-45页 |
| 3.6.3 薄膜转移到石英衬底的显微镜观察分析 | 第45-47页 |
| 第4章 工作气体对薄膜制备影响的研究 | 第47-56页 |
| 4.1 实验过程 | 第47-48页 |
| 4.2 工作气体对薄膜制备影响研究的讨论分析 | 第48-52页 |
| 4.2.1 扫描电子显微镜表征结果 | 第48-49页 |
| 4.2.2 傅立叶变换红外光谱表征结果 | 第49-50页 |
| 4.2.3 X射线光电子能谱的表征结果 | 第50-52页 |
| 4.3 不同制备条件产生样品的紫外吸收特性分析 | 第52-54页 |
| 4.4 不同制备条件产生样品的电学特性分析 | 第54-56页 |
| 第5章 总结 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |